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1. (WO2014000315) PHOTOMASQUE DE DURCISSEMENT D'UN ADHÉSIF DE CADRE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PANNEAU D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/000315    N° de la demande internationale :    PCT/CN2012/078149
Date de publication : 03.01.2014 Date de dépôt international : 04.07.2012
CIB :
G02F 1/1339 (2006.01), G02F 1/1333 (2006.01)
Déposants : SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; Wang, Kexin, No. 9-2 Tangming Rd Guangming New District Shenzhen, Guangdong 518132 (CN) (Tous Sauf US).
CHIU, Chung Yi [CN/CN]; (CN) (US Seulement)
Inventeurs : CHIU, Chung Yi; (CN)
Mandataire : ESSEN PATENT & TRADEMARK AGENCY; Wang Kexin, Cyber Times Tower A Room 1409, Tian'an Cyber Park, Futian District Shenzhen, Guangdong 518040 (CN)
Données relatives à la priorité :
201210209808.1 25.06.2012 CN
Titre (EN) PHOTOMASK FOR CURING FRAME ADHESIVE AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL
(FR) PHOTOMASQUE DE DURCISSEMENT D'UN ADHÉSIF DE CADRE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PANNEAU D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(ZH) 框胶固化之光罩及液晶显示面板制作方法
Abrégé : front page image
(EN)A photomask (10) for curing a frame adhesive and a method for manufacturing a liquid crystal display panel. The photomask (10) for curing the frame adhesive comprises a shaded area (11), a transparent area (12) adjacent thereto, and transitional areas (20, 30, 40, 50, 60, and 70) at the intersection of the shaded area and the transparent area. The transitional areas (20, 30, 40, 50, 60, and 70) are connected with the shaded area (11), comprise at least two shaded parts (21, 31, 41, 51, 61, and 71), and comprise transparent parts (22, 32, 42, 52, 62, and 72), where the shaded parts (21, 31, 41, 51, 61, and 71) and the transparent parts (22, 32, 42, 52, 62, and 72) are staggered with each other. When using the photomask (10) for exposure, the transitional areas (20, 30, 40, 50, 60, and 70) allow the transmittance of a corresponding light to be less than the transmittance of the transparent area (12) but greater than the transmittance of the shaded area (11).
(FR)L'invention concerne un photomasque (10) de durcissement d'un adhésif de cadre et un procédé de fabrication d'un panneau d'affichage à cristaux liquides. Le photomasque (10) de durcissement d'un adhésif de cadre comprend une zone ombrée (11), une zone transparente (12) adjacente à celle-ci, et des zones de transition (20, 30, 40, 50, 60 et 70) au niveau de l'intersection entre la zone ombrée et la zone transparente. Les zones de transition (20, 30, 40, 50, 60 et 70) sont reliées à la zone ombrée (11), comprennent au moins deux parties ombrées (21, 31, 41, 51, 61 et 71) et des parties transparentes (22, 32, 42, 52, 62 et 72), les parties ombrées (21, 31, 41, 51, 61, et 71) et les parties transparentes (22, 32, 42, 52, 62 et 72) étant décalées les unes par rapport aux autres. Lors de l'utilisation du photomasque (10) pour l'exposition, les zones de transition (20, 30, 40, 50, 60 et 70), la transmittance d'une lumière correspondante est inférieure à la transmittance de la zone transparente (12) mais supérieure à la transmittance de la zone ombrée (11).
(ZH)一种框胶固化之光罩(10)及液晶显示面板制作方法,框胶固化之光罩(10)包括遮光区(11)及与其相邻的透光区(12)的交汇处包括过渡区(20,30,40,50,60,70),过渡区(20,30,40,50,60,70)连接遮光区(11),且包括至少两个的遮光部分(21,31,41,51,61,71),还包括有透光部分(22,32,42,52,62,72),遮光部分(21,31,41,51,61,71)与透光部分(22,32,42,52,62,72)相互交错;在使用光罩(10)曝光时,过渡区(20,30,40,50,60,70)使得对应的光的透射率低于透光区(12)的透射率而高于遮光区(11)的透射率。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)