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1. (WO2014000127) COLLIMATEUR D'ASSEMBLAGE DE CHAMP QI HAUTE EFFICACITÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/000127    N° de la demande internationale :    PCT/CN2012/000894
Date de publication : 03.01.2014 Date de dépôt international : 29.06.2012
CIB :
A61H 39/00 (2006.01), A61N 1/00 (2006.01)
Déposants : WU, Ching-Chung [CN/CN]; (CN).
CHEN, Gia-Fen Tsai [CN/CN]; (CN)
Inventeurs : WU, Ching-Chung; (CN).
CHEN, Gia-Fen Tsai; (CN)
Mandataire : KELONG INTERNATIONAL INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY LTD.; A-1303, Horizon International Tower No. 6 Zhichun Road Haidian District, Beijing 100088 (CN)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) HIGH-EFFICIENCY QI FIELD GATHERING COLLIMATOR
(FR) COLLIMATEUR D'ASSEMBLAGE DE CHAMP QI HAUTE EFFICACITÉ
(ZH) 高效能气场聚集准直器
Abrégé : front page image
(EN)A high-efficiency qi field gathering collimator comprises a heat generation unit (3), a qi field generation element (5), and a qi field gathering collimation structure (6). The qi field gathering collimation structure (6) is a polygonal pyramidal body, and has a qi field absorption surface (61) located at a blunt end and a corresponding qi field emission surface (64) located at a pointed end. The location between the qi field absorption surface (61) and the qi field emission surface (64) is defined as a tapering portion, and the tapering portion is a qi field compression conical surface (63). The qi field compression conical surface (63) is conducive to compress and intensify the absorbed qi field, and the qi field compression conical surface (63) has a curved qi field-guiding surface close to the qi field absorption surface that is conducive to guiding and gathering qi field, thereby enhancing the qi field gathering effect.
(FR)La présente invention concerne un collimateur d'assemblage de champ qi haute efficacité qui comprend une unité de génération de chaleur (3), un élément de génération de champ qi (5), et une structure de collimation d'assemblage de champ qi (6). La structure de collimation d'assemblage de champ qi (6) est un corps pyramidal polygonal, et a une surface d'absorption de champ qi (61) située au niveau d'une extrémité émoussée et une surface d'émission de champ qi correspondante (64) située au niveau d'une extrémité pointue. L'emplacement entre la surface d'absorption de champ qi (61) et la surface d'émission de champ qi (64) est défini comme une partie conique, et la partie conique est une surface conique de compression de champ qi (63). La surface conique de compression de champ qi (63) est conductrice pour compresser et intensifier le champ qi absorbé, et la surface conique de compression de champ qi (63) possède une surface de guidage de champ qi incurvée proche de la surface d'absorption de champ qi qui est conductrice pour guider et assembler le champ qi, améliorant ainsi l'effet d'assemblage de champ qi.
(ZH)一种高效能气场聚集准直器包括发热单元(3)、气场产生元件(5)和气场聚集准直结构(6)。气场聚集准直结构(6)呈多边形角锥状体,其具有位于钝端的气场吸入面(61)及位于尖端对应的气场射出面(64),而介于气场吸入面(61)及气场射出面(64)之间界定渐细部,所述渐细部为气场压缩锥面(63)。所述气场压缩锥面(63)有助于将所吸收的气场压缩及强化,所述气场压缩锥面(63)邻近气场吸入面侧处具有气场导流曲面,以有助于气场的导流及汇聚,使气场聚集的效果更好。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)