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1. (WO2013191744) INTERCALAIRE SURDIMENSIONNÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/191744    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/026486
Date de publication : 27.12.2013 Date de dépôt international : 15.02.2013
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    11.04.2014    
CIB :
H01L 21/48 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : XILINX, INC [US/US]; Attn: Legal Dept. 2100 Logic Drive San Jose, CA 95124 (US)
Inventeurs : HISAMURA, Toshiyuki; (US)
Mandataire : CARTIER, Lois; Xilinx, Inc. Attn: Legal Dept. 2100 Logic Drive San Jose, CA 95124 (US)
Données relatives à la priorité :
13/527,453 19.06.2012 US
Titre (EN) OVERSIZED INTERPOSER
(FR) INTERCALAIRE SURDIMENSIONNÉ
Abrégé : front page image
(EN)An embodiment of an interposer (204, 304, 1000) is disclosed. For this embodiment of the interposer (204, 304, 1000), a first circuit portion (505, 507) is created responsive to a first printing region (502). A second circuit portion (506, 508) is created responsive to a second printing region (504). The interposer (204, 304, 1000) has at least one of: (a) a length dimension greater than a maximum reticle length dimension, and (b) a width dimension greater than a maximum reticle width dimension.
(FR)L'invention concerne un mode de réalisation d'un intercalaire (204, 304, 1000). Dans ce mode de réalisation de l'intercalaire (204, 304, 1000), une première partie (505, 507) de circuit est créée en réaction à une première région (502) d'impression. Une deuxième partie (506, 508) de circuit est créée en réaction à une deuxième région (504) d'impression. L'intercalaire (204, 304, 1000) présente : (a) une dimension de longueur supérieure à une dimension maximale de longueur d'un réticule ; et / ou (b) une dimension de largeur supérieure à une dimension maximale de largeur du réticule.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)