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1. (WO2013191341) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN POINÇON POUR UN APPAREIL DE NANOLITHOGRAPHIE PLASMONIQUE, ET APPAREIL DE NANOLITHOGRAPHIE PLASMONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/191341    N° de la demande internationale :    PCT/KR2012/011028
Date de publication : 27.12.2013 Date de dépôt international : 17.12.2012
CIB :
G03F 7/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/021 (2006.01), B29C 33/42 (2006.01)
Déposants : KOREA INSTITUTE OF MACHINERY & MATERIALS [KR/KR]; 156, Gajeongbuk-Ro, Yuseong-Gu, Daejeon 305-343 (KR)
Inventeurs : LEE, Eung-Sug; (KR).
JUNG, Joo Yun; (KR).
CHOI, Jun Hyuk; (KR).
HAHN, Jae Won; (KR)
Mandataire : PANKOREA PATENT AND LAW FIRM; 13th Floor, 823-16 Yeoksam-dong, Gangnam-gu, Seoul 135-080 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0066177 20.06.2012 KR
Titre (EN) METHOD OF MANUFACTURING STAMP FOR PLASMONIC NANOLITHOGRAPHY APPARATUS AND PLASMONIC NANOLITHOGRAPHY APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN POINÇON POUR UN APPAREIL DE NANOLITHOGRAPHIE PLASMONIQUE, ET APPAREIL DE NANOLITHOGRAPHIE PLASMONIQUE
Abrégé : front page image
(EN)There is provided a method of manufacturing a stamp for a plasmonic nanolithography apparatus. The method includes forming metal patterns on a substrate, coating a hydrophobic thin film on external surfaces of the metal patterns to hydrophobic processing the external surfaces of the metal patterns, selectively hydrophilic processing only the external surfaces of the metal patterns, laminating a buffer layer on the substrate and the metal patterns, and transcribing the metal patterns and the buffer layer from the substrate to a base formed of light transmission material to be combined with the base.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé de fabrication d'un poinçon pour un appareil de nanolithographie plasmonique. Le procédé consiste à former des motifs métalliques sur un substrat, à déposer un mince film hydrophobe sur les surfaces externes des motifs métalliques afin d'effectuer un traitement hydrophobe des surfaces externes des motifs métalliques, à effectuer de manière sélective un traitement hydrophile uniquement sur les surfaces externes des motifs métalliques, à stratifier une couche tampon sur le substrat et les motifs métalliques, et à transcrire les motifs métalliques et la couche tampon du substrat à une base constituée d'un matériau transmettant la lumière qui doit être combiné à la base.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)