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1. (WO2013191164) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SURFACE D'UN SUBSTRAT EN VERRE, ET SUBSTRAT EN VERRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/191164    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/066681
Date de publication : 27.12.2013 Date de dépôt international : 18.06.2013
CIB :
C03C 23/00 (2006.01), C03C 3/083 (2006.01), C03C 3/085 (2006.01), C03C 3/087 (2006.01), C03C 3/091 (2006.01), C03C 3/093 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
Inventeurs : FUNATSU Shiro; (JP).
KOIKE Akio; (JP).
YAMAMOTO Kiyoshi; (JP).
YAMAMOTO Yuichi; (JP).
WAKATSUKI Hiroshi; (JP).
NISHII Junji; (JP).
HARADA Kenji; (JP).
IKEDA Hiroshi; (JP).
SAKAI Daisuke; (JP)
Mandataire : SAKURA PATENT OFFICE, P.C.; PMO Kanda Tsukasa-machi, 8-1, Kanda Tsukasa-machi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010048 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-141139 22.06.2012 JP
2012-197235 07.09.2012 JP
2012-249337 13.11.2012 JP
Titre (EN) METHOD FOR SURFACE-PROCESSING GLASS SUBSTRATE, AND GLASS SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SURFACE D'UN SUBSTRAT EN VERRE, ET SUBSTRAT EN VERRE
(JA) ガラス基体の表面処理方法、およびガラス基体
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a method for forming a sufficiently thick alkali low-concentration region without heating glass to a high temperature even in the absence of an environment of a plasma-forming gas such as helium, argon, or the like. A glass substrate comprising glass containing an alkali oxide, having a pair of main surfaces between a first electrode and a second electrode, is disposed such that one main surface is separated from the first electrode, and the other main surface contacts the second electrode. Direct current is applied so that the first electrode is the positive electrode and the second electrode is the negative electrode to generate a corona discharge. In the positive-electrode-side surface layer near the first electrode of the glass substrate, at least one positive ion containing alkali ions is caused to move toward the negative-electrode side contacting the second electrode.
(FR)Cette invention concerne un procédé de formation d'une région à basse concentration alcaline suffisamment épaisse sans chauffer le verre à une température élevée même en l'absence d'un environnement gazeux plasmagène tel que l'hélium, l'argon, ou autre. Un substrat en verre à base d'un verre contenant un oxyde alcalin, présentant une paire de surfaces principales entre une première électrode et une seconde électrode, est agencé de façon qu'une des surfaces principales soit séparée de la première électrode, et que l'autre surface principale soit en contact avec la seconde électrode. Un courant continu est appliqué de façon que la première électrode soit l'électrode positive et que la seconde électrode soit l'électrode négative pour générer une décharge en couronne. Dans la couche superficielle côté électrode positive à proximité de la première électrode du substrat en verre, au moins un ion positif contenant des ions alcalins est déplacé en direction du côté électrode négative en contact avec la seconde électrode.
(JA) ガラスを高温に加熱することなく、かつヘリウム、アルゴン等のプラズマ形成ガスの雰囲気でなくても、アルカリ低濃度領域を十分に厚く形成できる方法を提供する。 第1の電極と第2の電極との間に、一対の主面を有し、組成においてアルカリ酸化物を含有するガラスからなるガラス基体を、一方の主面が前記第1の電極に対して離間し、かつ他方の主面が前記第2の電極に接触するように配置し、前記第1の電極を正極とし前記第2の電極を負極とするように直流電圧を印加してコロナ放電を発生させ、前記ガラス基体の前記第1の電極に近い正極側表層部において、アルカリイオンを含む陽イオンの少なくとも1種を、前記第2の電極に接する負極側に向って移動させる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)