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1. (WO2013191150) FILM DE PROTECTION DE PLAQUE DE POLARISATION ET PLAQUE DE POLARISATION POURVUE DE CE DERNIER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/191150    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/066641
Date de publication : 27.12.2013 Date de dépôt international : 18.06.2013
CIB :
G02B 5/30 (2006.01), C08J 5/18 (2006.01), C08L 1/10 (2006.01), C08L 1/26 (2006.01), C08L 33/04 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01)
Déposants : KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
Inventeurs : TAKIMOTO, Masataka; (JP).
TAMAGAWA, Minori; (JP)
Mandataire : KOYO INTERNATIONAL PATENT FIRM; 17F., Tokyo Takarazuka Bldg., 1-1-3, Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000006 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-139304 21.06.2012 JP
Titre (EN) POLARIZING PLATE PROTECTIVE FILM AND POLARIZING PLATE EQUIPPED WITH SAME
(FR) FILM DE PROTECTION DE PLAQUE DE POLARISATION ET PLAQUE DE POLARISATION POURVUE DE CE DERNIER
(JA) 偏光板保護フィルム及びそれが具備された偏光板
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a polarizing plate protective film with high fracture-point stress and flexing strength and a polarizing plate that is equipped with such a polarizing plate protective film and that has high reworkability. This polarizing plate protective film comprises at least a resin (A) and a resin (B) with differing solubilities in organic solvents and has a film thickness of 15-100 µm, and is characterized in that, in evaluation tests of the solubility of a prescribed quantity of resin in a prescribed quantity of solvent at a prescribed temperature, when dissolution is carried out under certain conditions using at least the minimum quantity of a solvent (a), that is a good solvent of the resin (A) but a poor solvent of the resin (B), required for completely dissolving the resin (A) alone, an undissolved portion remains, and the mass of the resin (A) in the undissolved matter is at least 10% by weight relative to the resin (A) contained in the polarizing plate protective film before dissolution.
(FR)La présente invention a pour objet de proposer un film de protection de plaque de polarisation qui présente une contrainte en pointe de fissure élevée et une résistance à la flexion élevée, ainsi qu'une plaque de polarisation qui est pourvue d'un tel film de protection de plaque de polarisation et qui présente une excellente aptitude au remaniement. Ce film de protection de plaque de polarisation comprend au moins une résine (A) et une résine (B) qui présentent des solubilités différentes dans des solvants organiques et possède une épaisseur de film comprise entre 15 et 100 µm, et est caractérisé en ce que, lors des tests d'évaluation de la solubilité d'une quantité prescrite de résine dans une quantité prescrite de solvant à une température prescrite, lorsque la dissolution est effectuée sous certaines conditions à l'aide d'au moins la quantité minimale d'un solvant (a), qui est un bon solvant de la résine (A) mais un mauvais solvant de la résine (B), nécessaire pour dissoudre complètement la seule résine (A), une partie non dissoute subsiste et la masse de la résine (A) dans la matière non dissoute fait au moins 10 % en poids par rapport à la résine (A) contenue dans le film de protection de plaque de polarisation avant la dissolution.
(JA) 本発明の課題は、破断点応力と折り曲げ強度が高い偏光板保護フィルムの提供と、その偏光板保護フィルムが具備されたリワーク性の優れた偏光板を提供することである。 本発明の偏光板保護フィルムは、有機溶媒に対する溶解性が相異する少なくとも樹脂A及び樹脂Bを含有する膜厚が15~100μmの範囲内の偏光板保護フィルムであって、一定量の樹脂、一定量の溶媒及び一定温度における溶解性の評価試験において、前記樹脂Aに対しては良溶媒であるが、前記樹脂Bに対しては貧溶媒となる溶媒aを、当該樹脂Aを単独で完全に溶解するために要する少なくとも最低量を用いて、一定条件下で溶解したとき、不溶解部が残り、かつ当該不溶解物中に含まれる当該樹脂Aの質量が、当該溶解前の前記偏光板保護フィルム中に含有されていた樹脂Aの質量に対して10%以上であることを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)