WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2013191139) COMPOSITION DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT UTILISANT LADITE COMPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/191139    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/066611
Date de publication : 27.12.2013 Date de dépôt international : 17.06.2013
CIB :
B24B 37/00 (2012.01), C09G 1/02 (2006.01), C09K 3/14 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : FUJIMI INCORPORATED [JP/JP]; 1-1, Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-shi, Aichi 4528502 (JP)
Inventeurs : TANIGUCHI, Megumi; (JP).
MORINAGA, Hitoshi; (JP).
SERIKAWA, Masayuki; (JP)
Mandataire : ONDA, Makoto; 12-1, Ohmiya-cho 2-chome, Gifu-shi, Gifu 5008731 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-137979 19.06.2012 JP
Titre (EN) POLISHING COMPOSITION AND SUBSTRATE FABRICATION METHOD USING SAME
(FR) COMPOSITION DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT UTILISANT LADITE COMPOSITION
(JA) 研磨用組成物及びそれを用いた基板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)In the present invention, a polishing composition contains abrasive particles, a surface adsorption agent, and water and is used to polish a polishing target comprising crystalline metallic compounds. Compared to the case where the surface adsorption agent is removed from the polishing composition, the polishing composition reduces the surface defects of the polishing target after polishing.
(FR)La présente invention concerne une composition de polissage qui contient des particules abrasives, un agent d'adsorption superficielle, et de l'eau et qui est utilisée pour polir une cible de polissage qui comprend des composés métalliques cristallins. Par rapport au cas où l'agent d'adsorption superficielle est ôté de la composition de polissage, la composition de polissage réduit les défauts superficiels de la cible de polissage après le polissage.
(JA)研磨用組成物は、砥粒、表面吸着剤及び水を含有し、結晶性の金属化合物からなる研磨対象物を研磨する用途で使用される。研磨用組成物は、研磨用組成物から表面吸着剤を省いた場合に比べて、研磨後の研磨対象物の表面欠陥を低減する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)