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1. (WO2013191089) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM ANTIREFLET
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/191089    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/066423
Date de publication : 27.12.2013 Date de dépôt international : 14.06.2013
CIB :
G02B 1/11 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01), B29K 33/04 (2006.01), B29L 9/00 (2006.01), B29L 11/00 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP)
Inventeurs : YAMADA Nobuaki; .
FUJII Akiyoshi;
Mandataire : YASUTOMI & ASSOCIATES; 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-141317 22.06.2012 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING ANTIREFLECTIVE FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM ANTIREFLET
(JA) 反射防止フィルムの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a method for manufacturing an antireflective film, whereby formation of a moth eye structure, antifouling treatment of a surface of the antireflective film, and release treatment of a mold can be performed by a series of manufacturing steps, and the service life of the mold can be lengthened. This manufacturing method has a step for laminating a transfer resin on a substrate, a step for applying a releasing/antifouling material on the transfer resin surface, a step for applying the releasing/antifouling material to a mold surface, and a step for transferring a nanostructure pattern of the mold to the transfer resin by pressing the mold against the transfer resin after the releasing/antifouling material has been applied to the transfer resin surface and to the mold surface, the nanostructure pattern having a plurality of recessed parts in which the width between bottom points of adjacent recessed parts is equal to or less than the wavelength of visible light.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un film antireflet, caractérisé en ce que la formation d'une structure en œil de papillon de nuit, un traitement anti-salissures d'une surface du film antireflet, et un traitement de démoulage peuvent être réalisés par une série d'étapes de fabrication, et en ce que la durée de vie en service du moule peut être allongée. Le présent procédé de fabrication comporte une étape consistant à stratifier une résine de transfert sur un substrat, une étape consistant à appliquer un matériau de démoulage / anti-salissures sur la surface de la résine de transfert, une étape consistant à appliquer le matériau de démoulage / anti-salissures à une surface du moule, et une étape consistant à transférer un motif à nanostructure du moule à la résine de transfert en plaquant le moule contre la résine de transfert après que le matériau de démoulage / anti-salissures a été appliqué à la surface de la résine de transfert et à la surface du moule, le motif à nanostructure comprenant une pluralité de parties en creux, la largeur entre des points de fond de parties en creux adjacentes étant inférieure ou égale à la longueur d'onde de la lumière visible.
(JA)本発明は、モスアイ構造の形成、反射防止フィルムの表面への防汚処理、及び、モールドへの離型処理を、一連の製造工程で行うことができ、かつ、モールドの耐用期間を長期化することができる反射防止フィルムの製造方法を提供する。本発明の製造方法は、基材上に転写樹脂を積層する工程と、転写樹脂表面に離型/防汚材料を塗布する工程と、モールド表面に離型/防汚材料を塗布する工程と、転写樹脂表面及びモールド表面にそれぞれ離型/防汚材料を塗布した後に、転写樹脂にモールドを押し付けることで、モールドが有するナノ構造パターンを転写樹脂に転写する工程とを有し、該ナノ構造パターンは、隣り合う凹部の底点間の幅が可視光波長以下である複数の凹部を有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)