WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2013190786) ÉBAUCHE DE MASQUE À DÉCALAGE DE PHASE AINSI QUE MASQUE À DÉCALAGE DE PHASE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CE DERNIER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/190786    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/003519
Date de publication : 27.12.2013 Date de dépôt international : 05.06.2013
CIB :
G03F 1/29 (2012.01), G03F 1/26 (2012.01), G03F 1/80 (2012.01)
Déposants : ULVAC COATING CORPORATION [JP/JP]; 2804 Terao, Chichibu-shi, Saitama 3680056 (JP)
Inventeurs : KAGEYAMA, Kagehiro; (JP).
NAKAMURA, Daisuke; (JP)
Mandataire : SEIGA PATENT AND TRADEMARK CORPORATION; 9th Fl., Saisho Bldg., 1-14, Nishi-Gotanda 8-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-138460 20.06.2012 JP
Titre (EN) PHASE-SHIFTING MASK BLANK, AND PHASE-SHIFTING MASK AND PROCESS FOR PRODUCING SAME
(FR) ÉBAUCHE DE MASQUE À DÉCALAGE DE PHASE AINSI QUE MASQUE À DÉCALAGE DE PHASE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CE DERNIER
(JA) 位相シフトマスクブランクス、位相シフトマスク及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a phase-shifting mask blank which is suitable for use in producing phase-shifting masks of an edge enhancement type therefrom with high mass productivity. This phase-shifting mask blank (MB) comprises: a glass substrate (S); a phase-shifting layer (11) formed on a surface of the glass substrate and comprising Cr as a main component; an etching stopper layer (12) which has been formed on the phase-shifting layer, the direction from the glass substrate toward the phase-shifting layer being the upward direction, and which comprises at least one metal, as a main component, selected from Ni, Co, Fe, Ti, Si, Al, Nb, Mo, W, and Hf; and a light-shielding layer (13) formed on the etching stopper layer and comprising Cr as a main component.
(FR)La présente invention se rapporte à une ébauche de masque à décalage de phase qui convient pour être utilisée lors de la fabrication de masques à décalage de phase du type à amélioration des contours de ces derniers, leur fabrication en série étant importante. Cette ébauche de masque (MB) à décalage de phase comprend : un substrat de verre (S) ; une couche de décalage de phase (11) formée sur une surface du substrat de verre et contenant du chrome (Cr) en tant que composant principal ; une couche d'arrêt de gravure (12) qui a été formée sur la couche de décalage de phase, la direction allant du substrat de verre vers la couche de décalage de phase étant la direction verticale et qui comprend au moins un métal, en tant que composant principal, sélectionné dans le groupe constitué par le nickel (Ni), le cobalt (Co), le fer (Fe), le titane (Ti), le silicium (Si), l'aluminium (Al), le niobium (Nb), le molybdène (Mo), le tungstène (W) et le hafnium (H) ; et une couche faisant écran à la lumière (13) formée sur la couche d'arrêt de gravure et contenant du chrome (Cr) en tant que composant principal.
(JA) エッジ強調型の位相シフトマスクを高い量産性で製造するのに適した位相シフトマスクブランクスを提供する。 本発明の位相シフトマスクブランクスMBは、ガラス基板Sと、ガラス基板の表面に形成された、Crを主成分とする位相シフト層11と、ガラス基板から位相シフト層に向かう方向を上とし、位相シフト層上に形成された、Ni、Co、Fe、Ti、Si、Al、Nb、Mo、W及びHfから選択された少なくとも1種の金属を主成分とするエッチングストッパー層12と、エッチングストッパー層上に形成された、Crを主成分とする遮光層13とを備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)