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1. (WO2013190469) PROCÉDÉ COSMÉTIQUE POUR LE MAQUILLAGE ET/OU LE SOIN DES LÈVRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/190469    N° de la demande internationale :    PCT/IB2013/055006
Date de publication : 27.12.2013 Date de dépôt international : 18.06.2013
CIB :
A61Q 1/04 (2006.01), A61K 8/81 (2006.01), A61Q 19/00 (2006.01), A61K 8/04 (2006.01)
Déposants : L'OREAL [FR/FR]; 14 rue Royale F-75008 Paris (FR)
Inventeurs : SAMAIN, Henri; (FR)
Mandataire : LE COUPANEC, Pascale; Cabinet Nony 3 rue de Penthièvre F-75008 Paris (FR)
Données relatives à la priorité :
1255739 19.06.2012 FR
1350170 09.01.2013 FR
Titre (EN) COSMETIC PROCESS FOR MAKING UP AND/OR CARING FOR THE LIPS
(FR) PROCÉDÉ COSMÉTIQUE POUR LE MAQUILLAGE ET/OU LE SOIN DES LÈVRES
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a cosmetic process for making up and/or caring for the lips, comprising at least the steps consisting in: (i) forming, on all or part of the lip, an aerated coat of a composition (M) comprising, in a physiologically acceptable medium, at least one photo-crosslinkable compound, the said compound comprising at least one activated photo-dimerizable group bearing at least one activated double bond; and (ii) exposing all or part of the surface of the said coat formed in step (i) to conditions favourable for crosslinking the said photo-crosslinkable compound.
(FR)La présente invention porte sur un procédé cosmétique pour le maquillage et/ou le soin des lèvres, comprenant au moins les étapes consistant à : (i) former, sur la totalité ou une partie de la lèvre, un revêtement à inclusions gazeuses constitué d'une composition (M) comprenant, dans un milieu physiologiquement acceptable, au moins un composé photoréticulable, ledit composé comprenant au moins un groupe photodimérisable activé portant au moins une double liaison activée ; et (ii) exposer la totalité ou une partie de la surface dudit revêtement formé dans l'étape (i) à des conditions favorables à la réticulation dudit composé photoréticulable.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)