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1. (WO2013190465) PROCÉDÉ COSMÉTIQUE POUR FORMER UNE COUCHE À LA SURFACE D'UN ONGLE OU FAUX ONGLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/190465    N° de la demande internationale :    PCT/IB2013/055000
Date de publication : 27.12.2013 Date de dépôt international : 18.06.2013
CIB :
A61Q 3/02 (2006.01), A61K 8/81 (2006.01), A61K 8/87 (2006.01), A61K 8/04 (2006.01)
Déposants : L'OREAL [FR/FR]; 14 rue Royale F-75008 Paris (FR)
Inventeurs : SAMAIN, Henri; (FR)
Mandataire : LE COUPANEC, Pascale; Cabinet Nony 3 rue de Penthièvre F-75008 Paris (FR)
Données relatives à la priorité :
1255737 19.06.2012 FR
1350169 09.01.2013 FR
Titre (EN) COSMETIC PROCESS FOR FORMING A COATING ON THE SURFACE OF A NAIL OR FALSE NAIL
(FR) PROCÉDÉ COSMÉTIQUE POUR FORMER UNE COUCHE À LA SURFACE D'UN ONGLE OU FAUX ONGLE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a cosmetic process for forming a coating on the surface of a nail or false nail, comprising at least steps consisting in: (i) forming, on all or part of a nail or false nail, an aerated coat of a composition (M) comprising, in a physiologically acceptable medium, at least one photo- crosslinkable compound, the said compound comprising at least one activated photo- dimerizable group bearing at least one activated double bond; and (ii) exposing all or part of the surface of the said coat formed in step (i) to conditions favourable for crosslinking the said photo-crosslinkable compound.
(FR)La présente invention concerne un procédé cosmétique pour former une couche à la surface d'un ongle ou faux ongle, qui consiste au moins à: i) former, sur tout ou partie d'un ongle ou faux ongle, une couche aérée d'une composition (M) comprenant, dans un milieu physiologiquement acceptable, au moins un composé photoréticulable présentant au moins un groupe photodimérisable activé portant au moins une double liaison activée; et ii) exposer tout ou partie de la surface de ladite couche formée à l'étape i) à des conditions favorables pour la réticulation dudit composé photoréticulable.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)