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1. (WO2013189605) SYSTÈME D'ÉCRITURE LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/189605    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/001831
Date de publication : 27.12.2013 Date de dépôt international : 20.06.2013
CIB :
B23K 26/04 (2014.01), B23K 26/00 (2014.01), B23K 26/06 (2014.01), H01L 31/18 (2006.01)
Déposants : TEL SOLAR AG [CH/CH]; Hauptstraße 1A CH-9477 Trübbach (CH)
Inventeurs : RISTAU, Sergej; (CH).
KIEFER, Dennis; (CH).
WITTE, Thomas; (CH).
GAHLER, André; (CH)
Mandataire : LIESEGANG, Eva; Boehmert & Boehmert Anwaltspartnerschaft mbB Patentanwälte Rechtsanwälte Pettenkoferstraße 20-22 80336 München (DE)
Données relatives à la priorité :
61/661,853 20.06.2012 US
61/661,873 20.06.2012 US
61/661,845 20.06.2012 US
Titre (EN) LASER SCRIBING SYSTEM
(FR) SYSTÈME D'ÉCRITURE LASER
Abrégé : front page image
(EN)A laser scribing system (100) for removing portions of a thin film layer positioned on a large- area substrate is provided. The system includes a source laser (110), a diffractive optical element (120) configured to produce one or more optical scribing beams (122) from a laser beam (112) provided by the source laser (110), a blocking element (160, 164), a scattering element (130), or a combination thereof, the blocking element (160, 164) and the scattering element (130) being positioned between the diffractive optical element (120) and the large-area substrate and configured to block one or more portions of unwanted diffracted beams, one or more of the optical scribing beams, or a combination thereof, focusing optics (140)configured to focus the optical scribing beams, and a control system (150) configured to dynamically position the optical scribing beams with respect to the substrate and control the source laser, an alignment and spacing of the diffractive optical element, the blocking element, the scanning element, or the combination thereof, and the focusing optics.
(FR)La présente invention porte sur un système d'écriture laser destiné à éliminer des parties d'une couche de film mince positionnée sur un substrat de grande surface. Le système comprend un laser de source, un élément optique de diffraction configuré pour produire un ou plusieurs faisceaux d'écriture optique à partir d'un faisceau laser fourni par le laser de source, un élément bloquant, un élément diffusant ou une combinaison de ceux-ci, l'élément bloquant et l'élément diffusant étant positionnés entre l'élément optique de diffraction et le substrat de grande surface et configurés pour bloquer une ou plusieurs parties de faisceaux diffractées non désirés, un ou plusieurs des faisceaux d'écriture optique, ou une combinaison de ceux-ci, des optiques de focalisation configurées pour focaliser les faisceaux d'écriture optique, et un système de commande configuré pour positionner de manière dynamique les faisceaux d'écriture optique par rapport au substrat et commander le laser de source, un alignement et un espacement de l'élément optique de diffraction, de l'élément bloquant, de l'élément de balayage, ou de leur combinaison, et des optiques de focalisation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)