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1. (WO2013187530) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, COMPOSITION UTILISÉE DANS CELUI-CI, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/187530    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/066770
Date de publication : 19.12.2013 Date de dépôt international : 12.06.2013
CIB :
G03F 7/40 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : YAMAMOTO, Kei; (JP).
UEBA, Ryosuke; (JP)
Mandataire : TAKAMATSU, Takeshi; Koh-Ei Patent Firm, Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-133229 12.06.2012 JP
61/658,630 12.06.2012 US
Titre (EN) PATTERN FORMING METHOD, COMPOSITION USED THEREIN, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, COMPOSITION UTILISÉE DANS CELUI-CI, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A pattern forming method includes: (i) a step of forming a first film by using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition (I), (ii) a step of exposing the first film, (iii) a step of developing the exposed first film by using an organic solvent-containing developer to form a negative pattern, (iv) a step of forming a second film on the negative pattern by using a specific composition (II), (v) a step of increasing polarity of the specific compound compound present in the second film, and (vi) a step of removing a specific area of the second film by using the organic solvent-containing remover.
(FR)La présente invention concerne un procédé de formation de motifs qui comprend : (i) une étape consistant à former un premier film par l'utilisation d'une composition (I) de résine sensible à un rayon actinique ou sensible à un rayonnement, (ii) une étape consistant à exposer le premier film, (iii) une étape consistant à développer le premier film exposé par l'utilisation d'un développateur contenant un solvant organique afin de former un motif négatif, (iv) une étape consistant à former un second film sur le motif négatif par l'utilisation d'une composition (II) spécifique, (v) une étape consistant à augmenter la polarité du composé spécifique présent dans le second film, et une étape (vi) consistant à supprimer une surface spécifique du second film par l'utilisation du décapant contenant un solvant organique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)