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1. (WO2013187267) MICROSTRUCTURE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/187267    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/065301
Date de publication : 19.12.2013 Date de dépôt international : 27.05.2013
CIB :
B81C 1/00 (2006.01), H01J 37/04 (2006.01)
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501 (JP)
Inventeurs : KATO, Takahisa; (JP)
Mandataire : OKABE, Yuzuru; 22F, Marunouchi Kitaguchi Bldg., 1-6-5 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-134484 14.06.2012 JP
Titre (EN) MICROSTRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
(FR) MICROSTRUCTURE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method of manufacturing a microstructure, including: a preparing step of preparing a silicon substrate having a first surface and a second surface; a first step of forming a hole in the first surface; a second step of forming, in the hole, a film formed of a material which has selectivity for an etchant to form an etching region, the region having side portions and a bottom portion surrounded by the film; a third step of forming, on the first surface, a first layer which is a multilayer film including an insulating layer and a metal layer stacked therein, at least one of the insulating layer and the metal layer being patterned, in a state where a position of the pattern and a position of the etching region are adjusted; a fourth step of forming a first opening which pierces the first layer; and a fifth step of introducing the etchant through the first opening to remove the etching region.
(FR)La présente invention porte sur un procédé de fabrication de microstructure comprenant : une étape de préparation, de préparation d'un substrat de silicium ayant une première surface et une seconde surface ; une première étape de formation d'un trou dans la première surface ; une deuxième étape de formation, dans le trou, d'un film formé d'une matière qui a une sélectivité pour un agent de gravure pour former une région de gravure, la région ayant des parties latérales et une partie inférieure entourées par le film ; une troisième étape de formation, sur la première surface, d'une première couche qui est un film multicouche comprenant une couche isolante et une couche métallique empilée sur celle-ci, au moins l'une de la couche isolante et de la couche métallique étant à motif, dans un état où une position du motif et une position de la région de gravure sont réglées ; une quatrième étape de formation d'une première ouverture qui perce la première couche ; et une cinquième étape d'introduction de l'agent de gravure à travers la première ouverture pour éliminer la région de gravure.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)