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1. (WO2013185401) MASQUE ET SON PROCÉDÉ DE CORRECTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/185401    N° de la demande internationale :    PCT/CN2012/078669
Date de publication : 19.12.2013 Date de dépôt international : 16.07.2012
CIB :
G03F 7/12 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G03F 1/00 (2012.01), G02F 1/133 (2006.01)
Déposants : SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGYCO., LTD. [CN/CN]; Wang,kexin No.9-2 Tangming Rd, Guangming New District Shenzhen, Guangdong 518132 (CN) (Tous Sauf US).
MA, jiaxing [CN/CN]; (CN) (US Seulement)
Inventeurs : MA, jiaxing; (CN)
Mandataire : ESSEN PATENT&TRADEMARK AGENCY; Wang Kexin Cyber Times Tower A Room 1409 Tian'an Cyber Park, Futian District ShenZhen, Guangdong 518040 (CN)
Données relatives à la priorité :
201210199257.5 15.06.2012 CN
Titre (EN) MASK AND CORRECTION METHOD THEREOF
(FR) MASQUE ET SON PROCÉDÉ DE CORRECTION
(ZH) 一种光罩及其修正方法
Abrégé : front page image
(EN)A correction method of a mask (30). The method comprises: selecting a reference region (43) in a schematic pattern of a mask template (40), wherein the reference region (43) is corresponding to a complementary shading region (33) of the mask (30); forming a repair region (21) on a member that can be hollowed out (20) according to the reference region (43), and forming a hollow region (23) in the repair region (21) of the member that can be hollowed out (20), wherein the hollow region (23) is corresponding to the complementary shading region (33); attaching the member that can be hollowed out (20) onto the mask (30), and making the hollow region (23) correspond to the complementary shading region (33); coating a shading material on the member that can be hollowed out (20) to form a shading layer (35) on the complementary shading region (33). Also disclosed is a mask (30).
(FR)L'invention concerne un procédé de correction d'un masque (30). Le procédé comprend : le choix d'une région de référence (43) dans un motif schématique d'un modèle de masque (40), la région de référence (43) correspondant à une région d'ombrage complémentaire (33) du masque (30) ; la formation d'une région de réparation (21) sur un organe qui peut être creusé (20) selon la région de référence (43), et la formation d'une région creuse (23) dans la région de réparation (21) de l'organe qui peut être creusé (20), la région creuse (23) correspondant à la région d'ombrage complémentaire (33) ; la fixation de l'organe qui peut être creusé (20) sur le masque (30), et le fait de faire correspondre la région creuse (23) à la région d'ombrage complémentaire (33) ; le revêtement d'un matériau d'ombrage sur l'organe qui peut être creusé (20) pour former une couche d'ombrage (35) sur la région d'ombrage complémentaire (33). L'invention concerne également un masque (30).
(ZH)一种光罩(30)修正方法,该方法包括:在光罩模板(40)的示意图案中选定一参照区(43),参照区(43)对应光罩(30)的待补充遮光区(33),根据所述参照区(43)在可镂空件(20)上形成一修补区(21),在可镂空件(20)的修补区(21)形成镂空区(23),镂空区(23)对应待补充遮光区(33);将可镂空件(20)贴合光罩(30),并使得镂空区(23)对应待补充遮光区(33);在可镂空件(20)上涂布遮光材料,以在待补充遮光区(33)形成一遮光层(35)。还披露了一种光罩(30)。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)