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1. (WO2013184638) COMMANDE DE DÉFORMATION POUR ACCÉLÉRATION DE DÉCOLLEMENT ÉPITAXIAL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/184638    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/044028
Date de publication : 12.12.2013 Date de dépôt international : 04.06.2013
CIB :
H01L 31/18 (2006.01), H01L 21/78 (2006.01)
Déposants : THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF MICHIGAN [US/US]; Office of Technology Transfer 1600 Huron Parkway, 2nd Floor Ann Arbor, Michigan 48109 (US)
Inventeurs : FORREST, Stephen, R.; (US).
LEE, Kyusang; (US).
ZIMMERMAN, Jeramy; (US)
Mandataire : SWEET, Mark D.; Finnegan, Henderson, Farabow, Garrett & Dunner, LLP 901 New York Avenue, N.W. Washington, DC 20001-4413 (US)
Données relatives à la priorité :
61/655,084 04.06.2012 US
Titre (EN) STRAIN CONTROL FOR ACCELERATION OF EPITAXIAL LIFT-OFF
(FR) COMMANDE DE DÉFORMATION POUR ACCÉLÉRATION DE DÉCOLLEMENT ÉPITAXIAL
Abrégé : front page image
(EN)There is disclosed a thin film device for epitaxial lift off comprising a handle and one or more straining layers disposed on the handle, wherein the one or more straining layers induce a curvature of the handle. There is also disclosed a method of fabricating a thin film device for epitaxial lift off comprising, depositing one or more straining layers on a handle, wherein the one or more straining layers induce at least one strain on the handle chosen from tensile strain, compressive strain and near-neutral strain. There is also disclosed a method for epitaxial lift off comprising, depositing an epilayer over a sacrificial layer disposed on a growth substrate; depositing one or more straining layers on at least one of the growth substrate and a handle; bonding the handle to the growth substrate; and etching the sacrificial layer.
(FR)L'invention concerne un dispositif à couche mince pour un décollement épitaxial, ledit dispositif comportant un manche et une ou plusieurs couches de déformation disposées sur le manche, la ou les couches de déformation entraînant une courbure du manche. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un dispositif à couche mince, pour un décollement épitaxial, qui comporte le dépôt d'une ou de plusieurs couches de déformation sur un manche, la ou les couches de déformation entraînant au moins une déformation du manche choisie parmi une déformation par traction, une déformation par compression et une déformation quasi-neutre. L'invention concerne également un procédé, pour un décollement épitaxial, qui comporte le dépôt d'une couche épitaxiale sur une couche sacrificielle disposée sur un substrat de croissance; le dépôt d'une ou de plusieurs couches de déformation sur le substrat de croissance et/ou un manche; la liaison du manche au substrat de croissance; la gravure de la couche sacrificielle.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)