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1. (WO2013184465) TAMPON DE POLISSAGE AVEC COUCHE SURFACE DE POLISSAGE COMPORTANT UNE FENÊTRE OU UNE OUVERTURE AU-DESSUS D'UNE COUCHE FONDATION TRANSPARENTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/184465    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/043126
Date de publication : 12.12.2013 Date de dépôt international : 29.05.2013
CIB :
B24B 37/20 (2012.01), B24B 37/22 (2012.01), B24B 37/26 (2012.01), B24D 11/00 (2006.01), B24D 18/00 (2006.01)
Déposants : NEXPLANAR CORPORATION [US/US]; 7175 NW Evergreen Parkway, Suite 200 Hillsboro, Oregon 97124 (US)
Inventeurs : LEFEVRE, Paul Andre; (US).
ALLISON, William C.; (US).
LACASSE, James P.; (US).
SCOTT, Diane; (US).
SIMPSON, Alexander William; (US).
HUANG, Ping; (US).
CHARNS, Leslie M.; (US)
Mandataire : BERNADICOU, Michael A.; Blakely Sokoloff Taylor & Zafman LLP 1279 Oakmead Parkway Sunnyvale, California 94085 (US)
Données relatives à la priorité :
13/488,149 04.06.2012 US
Titre (EN) POLISHING PAD WITH POLISHING SURFACE LAYER HAVING AN APERTURE OR OPENING ABOVE A TRANSPARENT FOUNDATION LAYER
(FR) TAMPON DE POLISSAGE AVEC COUCHE SURFACE DE POLISSAGE COMPORTANT UNE FENÊTRE OU UNE OUVERTURE AU-DESSUS D'UNE COUCHE FONDATION TRANSPARENTE
Abrégé : front page image
(EN)Polishing pads with a polishing surface layer having an aperture or opening above a transparent foundation layer are described. In an example, a polishing pad for polishing a substrate includes a foundation layer having a global top surface and a transparent region. A polishing surface layer is attached to the global top surface of the foundation layer. The polishing surface layer has a polishing surface and a back surface. An aperture is disposed in the polishing pad from the back surface through to the polishing surface of the polishing surface layer, and aligned with the transparent region of the foundation layer. The foundation layer provides an impermeable seal for the aperture at the back surface of the polishing surface layer. Methods of fabricating such polishing pads are also described.
(FR)L'invention concerne des tampons de polissage avec une couche surface de polissage comportant une fenêtre ou une ouverture au-dessus d'une couche fondation transparente. Dans un exemple, un tampon de polissage permettant de polir un substrat comprend une couche fondation avec une surface supérieure globale et une région transparente. Une couche surface de polissage est attachée à la surface supérieure globale de la couche fondation. La couche surface de polissage comprend une surface de polissage et une surface arrière. Une fenêtre est située dans le tampon de polissage à partir de la surface arrière au travers et jusqu'à la surface de polissage de la couche surface de polissage, et elle est alignée avec la région transparente de la couche fondation. La couche fondation constitue un joint imperméable pour la fenêtre sur la surface arrière de la couche surface de polissage. L'invention concerne aussi des méthodes de fabrication de tels tampons de polissage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)