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1. (WO2013184189) PHOTOALIGNEMENT DE MATÉRIAUX COMPRENANT DES CRISTAUX LIQUIDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/184189    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/029348
Date de publication : 12.12.2013 Date de dépôt international : 06.03.2013
CIB :
C08G 73/10 (2006.01)
Déposants : MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 77 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02139 (US)
Inventeurs : SWAGER, Timothy, M.; (US).
COX, Jason, R.; (US)
Mandataire : MARTIN, Karen, V.; Wolf, Greenfield & Sacks, P.C. 600 Atlantic Avenue Boston, MA 02210-2206 (US)
Données relatives à la priorité :
61/655,032 04.06.2012 US
Titre (EN) PHOTOALIGNMENT OF MATERIALS INCLUDING LIQUID CRYSTALS
(FR) PHOTOALIGNEMENT DE MATÉRIAUX COMPRENANT DES CRISTAUX LIQUIDES
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments described herein relate to compositions, devices, and methods for the alignment of certain materials including liquid crystals. In some cases, a photoresponsive material include a moiety capable of undergoing a di-pi-methane rearrangement. Methods described herein may provide chemically and/or thermally stable alignment materials for use in a various technologies, including transistors, luminescent devices, and liquid crystal devices.
(FR)Des modes de réalisation de l'invention concernent des compositions, des dispositifs et des procédés pour l'alignement de certains matériaux comprenant des cristaux liquides. Dans certains cas, un matériau photosensible comprend une fraction pouvant subir un réarrangement di-pi-méthane. Des procédés selon l'invention peuvent fournir des matériaux d'alignement stables chimiquement et/ou thermiquement destinés à être utilisés dans diverses technologies, notamment dans des transistors, des dispositifs luminescents et des dispositifs à cristaux liquides.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)