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1. (WO2013184065) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE STRUCTURE CONÇUE POUR ÊTRE TRANSFÉRÉE VERS UNE COUCHE NON CRISTALLINE ET STRUCTURE FABRIQUÉE À L'AIDE DUDIT PROCÉDÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/184065    N° de la demande internationale :    PCT/SE2013/050649
Date de publication : 12.12.2013 Date de dépôt international : 05.06.2013
CIB :
H01L 29/66 (2006.01), H01L 29/06 (2006.01), H01L 29/775 (2006.01), G01N 27/414 (2006.01), B82Y 10/00 (2011.01), B82Y 40/00 (2011.01), H01L 29/10 (2006.01)
Déposants : QUNANO AB [SE/SE]; Ideon Science Park Scheelevägen 17 S-223 70 Lund (SE)
Inventeurs : OHLSSON, Jonas; (SE).
SAMUELSON, Lars; (SE).
TEGENFELDT, Jonas; (SE).
ÅBERG, Ingvar; (SE).
ASOLI, Damir; (SE)
Mandataire : BRANN AB; P.O. Box 12246 S-102 26 Stockholm (SE)
Données relatives à la priorité :
61/656,617 07.06.2012 US
Titre (EN) A METHOD OF MANUFACTURING A STRUCTURE ADAPTED TO BE TRANSFERRED TO A NON-CRYSTALLINE LAYER AND A STRUCTURE MANUFACTURED USING SAID METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE STRUCTURE CONÇUE POUR ÊTRE TRANSFÉRÉE VERS UNE COUCHE NON CRISTALLINE ET STRUCTURE FABRIQUÉE À L'AIDE DUDIT PROCÉDÉ
Abrégé : front page image
(EN)The invention regards a method of manufacturing a structure adapted to be transferred to a non-crystalline layer. The method comprises the steps of providing a substrate having a crystal orientation, providing a plurality of elongate nanostructures (nanowires) on said substrate, said nanostructures extending from the substrate such that the angle defined by the axis of elongation of each nanostructure and the surface normal of the substrate is smaller than 55 degrees, depositing at least one layer of material such that at least the exposed regions of the substrate are covered by said material, removing the substrate such that the deposited layer becomes lowermost layer and exposing at least the extremity of the respective nanostructure of the plurality of nanostructures. Invention also regards a structure manufactured using said method.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une structure conçue pour être transférée vers une couche non cristalline. Le procédé comporte les étapes d'utilisation d'un substrat ayant une orientation cristalline, d'utilisation d'une pluralité de nanostructures allongées (nanofils) sur ledit substrat, lesdites nanostructures s'étendant à partir du substrat de telle sorte que l'angle délimité par l'axe d'élongation de chaque nanostructure et la normale à la surface du substrat est inférieur à 55 degrés, de dépôt d'au moins une couche de matériau de telle sorte qu'au moins les régions exposées du substrat soient recouvertes par ledit matériau, d'élimination du substrat de telle sorte que la couche déposée devienne la couche la plus inférieure et d'exposition d'au moins l'extrémité de la nanostructure respective de la pluralité de nanostructures. L'invention concerne également une structure fabriquée à l'aide dudit procédé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)