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1. (WO2013183569) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISQUE MAGNÉTIQUE ET SUBSTRAT DE VERRE POUR SUPPORTS D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/183569    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/065285
Date de publication : 12.12.2013 Date de dépôt international : 31.05.2013
CIB :
C03C 3/085 (2006.01), C03C 3/087 (2006.01), C03C 3/091 (2006.01), G11B 5/73 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
Inventeurs : NAKASHIMA Tetsuya; (JP).
TSUJIMURA Tomoyuki; (JP).
NISHIZAWA Manabu; (JP).
KOIKE Akio; (JP)
Mandataire : HAMADA Yuriko; Eikoh Patent Firm, Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-127872 05.06.2012 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING MAGNETIC DISK AND GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIA
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISQUE MAGNÉTIQUE ET SUBSTRAT DE VERRE POUR SUPPORTS D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
(JA) 磁気ディスクの製造方法および情報記録媒体用ガラス基板
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a method for producing a magnetic disk, which is capable of forming a magnetic recording layer at high temperature. The present invention relates to a method for producing a magnetic disk, which comprises a step wherein a magnetic recording layer is formed on a glass substrate that is at a temperature of 550°C or more, and in which the glass substrate contains, in mol%, 60-75% of SiO2, 7-17% of Al2O3, 0% or more but less than 2% of B2O3, and one or more substances selected from among MgO, CaO, SrO and BaO in an amount of more than 18% but 26% or less in total, with the total of the above-mentioned seven components being 95% or more, while containing one or more substances selected from among Li2O, Na2O and K2O in an amount of less than 1% or not containing any of these three substances.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un disque magnétique, qui est apte à former une couche d'enregistrement magnétique à température élevée. En particulier, la présente invention concerne un procédé de fabrication d'un disque magnétique, qui comprend une étape dans laquelle une couche d'enregistrement magnétique est formée sur un substrat de verre qui est à une température de 550°C ou plus, et dans lequel le substrat de verre contient, en % en moles, 60-75 % de SiO2, 7-17 % d'Al2O3, 0 % ou plus mais moins de 2 % de B2O3, et une ou plusieurs substances choisies parmi MgO, CaO, SrO et BaO dans une quantité de plus de 18 % mais de 26 % ou moins au total, le total des sept composants mentionnés ci-dessus étant 95 % ou plus, tout en contenant une ou plusieurs substances choisies parmi Li2O, Na2O et K2O dans une quantité inférieure à 1 % ou ne contenant aucune de ces trois substances.
(JA) 本発明は、高温で磁気記録層を形成できる磁気ディスクの製造方法を提供する。 本発明は、温度が550℃以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を含む磁気ディスクの製造方法であって、該ガラス基板がモル百分率表示で、SiOを60~75%、Alを7~17%、Bを0~2%未満、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で18%超26%以下含有し、上記7成分の含有量合計が95%以上であり、LiO、NaOおよびKOのいずれか1成分以上を合計で1%未満含有する、またはこれら3成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法に関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)