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1. (WO2013183260) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR SOLUTION CHIMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/183260    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/003410
Date de publication : 12.12.2013 Date de dépôt international : 30.05.2013
CIB :
H01L 21/306 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP)
Inventeurs : MURATA, Ryo;
Mandataire : MAEDA & PARTNERS; Osaka-Marubeni Bldg.5F, 5-7, Hommachi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410053 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-129190 06.06.2012 JP
Titre (EN) CHEMICAL SOLUTION TREATMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR SOLUTION CHIMIQUE
(JA) 薬液処理装置
Abrégé : front page image
(EN)An etching device (S) for etching surfaces of a substrate (W) to be treated includes: a treatment tank (10); a conveyer line (40) for conveying the substrate (W) that has been transported into the treatment tank (10); upper and lower etching showers (12, 18) for spraying etching liquid (L) over surfaces of the substrate (W) being conveyed by the conveyer line (40); and a ceiling shower (24) for spraying the etching liquid (L) over a ceiling surface (10c) of the treatment tank (10).
(FR)L'invention concerne un dispositif de gravure (S) pour graver des surfaces d'un substrat (W) à traiter qui comprend : une enceinte de traitement (10) ; une ligne de transporteur (40) pour transporter le substrat (W) qui a été transporté dans l'enceinte de traitement (10) ; des diffuseurs de gravure supérieur et inférieur (12, 18) pour pulvériser du liquide de gravure (L) sur des surfaces du substrat (W) transporté par la ligne de transporteur (40) ; et un diffuseur de plafond (24) pour pulvériser le liquide de gravure (L) sur une surface de plafond (10c) de l'enceinte de traitement (10).
(JA) 被処理基板(W)表面に対してエッチング処理を施すエッチング処理装置(S)において、処理槽(10)と、該処理槽(10)に搬入された被処理基板(W)を搬送する搬送ライン(40)と、搬送ライン(40)により搬送される被処理基板(W)表面に対してエッチング液(L)を吹き付ける上側及び下側エッチングシャワー(12,18)と、処理槽(10)の天井面(10c)に対してエッチング液(L)を吹き付ける天井用シャワー(24)とを備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)