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1. (WO2013183093) ELÉMENT EL ORGANIQUE, SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION, PANNEAU EL ORGANIQUE, DISPOSITIF ÉLECTROLUMINESCENT EL ORGANIQUE, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE EL ORGANIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/183093    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/005404
Date de publication : 12.12.2013 Date de dépôt international : 28.08.2012
CIB :
H01L 51/50 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01), H01L 27/32 (2006.01)
Déposants : PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (Tous Sauf US).
MISHIMA, Kosuke; (US Seulement)
Inventeurs : MISHIMA, Kosuke;
Mandataire : NAKAJIMA, Shiro; 6F, Yodogawa 5-Bankan, 2-1, Toyosaki 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5310072 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-126955 04.06.2012 JP
Titre (EN) ORGANIC EL ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING SAME, ORGANIC EL PANEL, ORGANIC EL LIGHT EMITTING DEVICE, AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE
(FR) ELÉMENT EL ORGANIQUE, SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION, PANNEAU EL ORGANIQUE, DISPOSITIF ÉLECTROLUMINESCENT EL ORGANIQUE, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE EL ORGANIQUE
(JA) 有機EL素子とその製造方法、有機ELパネル、有機EL発光装置、および有機EL表示装置
Abrégé : front page image
(EN)An organic EL element (1) is provided with: a positive electrode (2); a negative electrode (7); a light emitting layer (5) which is disposed between the positive electrode (2) and the negative electrode (7) and contains an organic material; a hole injection layer (3) which is disposed between the positive electrode (2) and the light emitting layer (5); and an electron injection layer (6) which is disposed between the light emitting layer (5) and the negative electrode (7). The hole injection layer (3) and the electron injection layer (6) contain metal atoms and sulfur atoms. With respect to the sulfur concentrations of the hole injection layer (3) and the electron injection layer (6), the sulfur concentration of the hole injection layer (3), said sulfur concentration being the atomic ratio of the sulfur to the metal contained in the hole injection layer (3), is from 96 ppm to 439 ppm (inclusive).
(FR)L'invention concerne un élément EL organique (1) qui comporte : une électrode positive (2) ; une électrode négative (7) ; une couche électroluminescente (5) qui est disposée entre l'électrode positive (2) et l'électrode négative (7) et contient un matériau organique ; une couche d'injection de trous (3) qui est disposée entre l'électrode positive (2) et la couche électroluminescente (5) ; une couche d'injection d'électrons (6) qui est disposée entre la couche électroluminescente (5) et l'électrode négative (7). La couche d'injection de trous (3) et la couche d'injection d'électrons (6) contiennent des atomes de métal et des atomes de soufre. Par rapport aux concentrations en soufre de la couche d'injection de trous (3) et de la couche d'injection d'électrons (6), la concentration en soufre de la couche d'injection de trous (3), ladite concentration en soufre étant le ratio atomique du soufre par rapport au métal contenu dans la couche d'injection de trous (3), est comprise entre 96 ppm et 439 ppm (inclus).
(JA)有機EL素子1は、陽極2および陰極7と、陽極2と陰極7との間に設けられ、有機材料を含む発光層5と、陽極2と発光層5との間に設けられたホール注入層3と、発光層5と陰極7との間に設けられた電子注入層7と、を備える。なお、ホール注入層3および電子注入層6は、それぞれ金属原子と硫黄原子とを含む。ホール注入層3および電子注入層6における硫黄濃度は、ホール注入層3に含まれる金属と硫黄との比である硫黄濃度が原子数比で96ppm以上であって439ppm以下である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)