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1. (WO2013182489) BAIN DE PLACAGE POUR DÉPÔT AUTOCATALYTIQUE DE COUCHES DE NICKEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/182489    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/061280
Date de publication : 12.12.2013 Date de dépôt international : 31.05.2013
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    22.08.2014    
CIB :
C23C 18/34 (2006.01), C23C 18/50 (2006.01), H01L 21/288 (2006.01)
Déposants : ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH [DE/DE]; Erasmusstraße 20 10553 Berlin (DE)
Inventeurs : BRUNNER, Heiko; (DE).
PICALEK, Jan; (DE).
BEJAN, Iulia; (DE).
KRAUSE, Carsten; (DE).
BERA, Holger; (DE).
RÜCKBROD, Sven; (DE)
Mandataire : WONNEMANN, Jörg; Atotech Deutschland GmbH Erasmusstraße 20 10553 Berlin (DE)
Données relatives à la priorité :
12170693.1 04.06.2012 EP
Titre (EN) PLATING BATH FOR ELECTROLESS DEPOSITION OF NICKEL LAYERS
(FR) BAIN DE PLACAGE POUR DÉPÔT AUTOCATALYTIQUE DE COUCHES DE NICKEL
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to aqueous plating bath compositions for deposition of nickel and nickel alloys utilizing novel stabilising agents possessing a carbon-carbon triple bond and a functional group to enhance the bath performance.
(FR)La présente invention porte sur des compositions aqueuses de bain de placage pour le dépôt de nickel et d'alliages de nickel comprenant de nouveaux agents stabilisants possédant une triple liaison carbone-carbone et un groupe fonctionnel pour améliorer la performance du bain.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)