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1. (WO2013182265) PÂTE DE GRAVURE PHOTOACTIVÉE ET SON UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/182265    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/001354
Date de publication : 12.12.2013 Date de dépôt international : 07.05.2013
CIB :
H01L 31/18 (2006.01), C09K 13/04 (2006.01)
Déposants : MERCK PATENT GMBH [DE/DE]; Frankfurter Strasse 250 64293 Darmstadt (DE)
Inventeurs : NAKANOWATARI, Jun; (JP).
GOTO, Tomohisa; (JP)
Données relatives à la priorité :
12004239.5 04.06.2012 EP
Titre (EN) PHOTOACTIVATED ETCHING PASTE AND ITS USE
(FR) PÂTE DE GRAVURE PHOTOACTIVÉE ET SON UTILISATION
Abrégé : front page image
(EN)The improved method for the etching of transparent conductive oxide layers placed on flexible polymer substrates, hard substrates like glass or on silicon wafers comprises the use of new etching pastes, which are activated by irradiation.
(FR)L'invention concerne un procédé amélioré de gravure de couches d'oxyde conducteur transparent sur des substrats en polymère flexible, des substrats durs comme le verre ou sur des tranches de silicium, qui comprend l'utilisation de nouvelles pâtes de gravure qui sont activées par rayonnement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)