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1. (WO2013181156) ELLIPSOMÈTRE SPECTROSCOPIQUE À PETITE TAILLE DE SPOT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/181156    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/042900
Date de publication : 05.12.2013 Date de dépôt international : 28.05.2013
CIB :
H01L 21/66 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Inventeurs : WANG, Haiming; (US).
KRISHNAN, Shankar; (US)
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; KLA Tencor Corporation Legal Department One Technology Drive Milpitas, CA 95035 (US)
Données relatives à la priorité :
61/652,769 29.05.2012 US
13/903,070 28.05.2013 US
Titre (EN) SMALL SPOT SIZE SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETER
(FR) ELLIPSOMÈTRE SPECTROSCOPIQUE À PETITE TAILLE DE SPOT
Abrégé : front page image
(EN)Methods and systems for small angle CD metrology with a small spot size are introduced to increase measurement sensitivity while maintaining adequate throughput necessary for modern semiconductor manufacture. A small angle CD metrology system includes a small angle spectroscopic ellipsometry (SE) subsystem combined with a small angle spectroscopic reflectometry system, both operated at small angles of incidence. The small angle SE subsystem is configured to operate in a complete Mueller Matrix mode to further improve measurement sensitivity. The small angle CD metrology system includes an objective having all reflective surfaces in the light path. In some embodiments, the all-reflective objective is a Schwartzschild objective having an axicon mirror element to further reduce measurement spot size. In some embodiments, the small angle CD metrology system includes a dynamic aperture subsystem to isolate specific ranges of angles of incidence and azimuth for improved measurement sensitivity.
(FR)La présente invention concerne des procédés et des systèmes pour une métrologie de dimensions critiques à petit angle avec une petite taille de spot pour l'augmentation de la sensibilité de mesure tout en maintenant un rendement adéquat nécessaire à la fabrication de semi-conducteurs modernes. Un système de métrologie de dimensions critiques à petit angle comprend un sous-système d'ellipsomètre spectroscopique (SE) à petit angle combiné à un système de réflectométrie spectroscopique à petit angle, tous les deux fonctionnant à des petits angles d'incidence. Le sous-système SE à petit angle est conçu pour fonctionner dans un mode de matrice de Mueller complète afin d'améliorer encore la sensibilité de mesure. Le système de métrologie de dimensions critiques à petit angle comprend un objectif possédant toutes les surfaces réfléchissantes dans le trajet lumineux. Dans certains modes de réalisation, l'objectif entièrement réfléchissant est un objectif de Schwartzschild possédant un élément de miroir conique tronqué pour réduire encore la taille d'un spot de mesure. Dans certains modes de réalisation, le système de métrologie de dimensions critiques à petit angle comprend un sous-système à ouverture dynamique pour isoler des plages spécifiques d'angles d'incidence et un azimut pour une meilleure sensibilité de mesure.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)