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1. (WO2013180944) ENSEMBLE DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/180944    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/040840
Date de publication : 05.12.2013 Date de dépôt international : 14.05.2013
CIB :
B24B 31/12 (2006.01), B24B 31/06 (2006.01)
Déposants : PRATT & WHITNEY SERVICES PTE LTD. [SG/SG]; 18 Loyang Crescent Singapore, 508982 (SG)
Inventeurs : BOON BENG, Chua; (SG).
TAN, Thomas; (SG).
CHEAH, Kim Wei; (SG).
CHOW, Wai, Tuck; (SG)
Mandataire : COON, Benjamin, J.; c/o CPA Global P.O. Box 52050 Minneapolis, Minnesota 55402 (US)
Données relatives à la priorité :
201204068-9 01.06.2012 SG
13/655,609 19.10.2012 US
Titre (EN) POLISHING ASSEMBLY AND METHOD FOR POLISHING
(FR) ENSEMBLE DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
Abrégé : front page image
(EN)An example component polishing method includes polishing a component protecting portions of the component during the polishing using a barrier spaced from the component. The barrier is configured to move together with the component during the polishing.
(FR)L'invention concerne un procédé de polissage de composant dont un exemple comprend le polissage de parties de protection de composant du composant durant le polissage en utilisant une barrière espacée du composant. La barrière est conçue pour se mouvoir conjointement avec le composant durant le polissage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)