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1. (WO2013180886) SYSTÈME ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE SÉPARER UN FAISCEAU D'IMPULSION PRINCIPALE ET DE PRÉIMPULSION D'UNE SOURCE LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/180886    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/039124
Date de publication : 05.12.2013 Date de dépôt international : 01.05.2013
CIB :
H01S 3/00 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL).
TRUMPF LASER SYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING GMBH [DE/DE]; Johann-Maus Straβe 2 71254 Ditzingen (DE)
Inventeurs : BERGSTEDT, Robert, A.; (US).
ARCAND, Jason, M.; (US).
PATE, Christopher, P.; (US).
LAMBERT, Martin; (DE)
Mandataire : NGUYEN, Joseph, A.; Cymer, Inc. Legal Dept., Ms/4-2d 17075 Thornmint Court San Diego, CA 92127-2413 (US)
Données relatives à la priorité :
61/654,003 31.05.2012 US
13/535,148 27.06.2012 US
Titre (EN) SYSTEM AND METHOD FOR SEPARATING A MAIN PULSE AND A PRE-PULSE BEAM FROM A LASER SOURCE
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE SÉPARER UN FAISCEAU D'IMPULSION PRINCIPALE ET DE PRÉIMPULSION D'UNE SOURCE LASER
Abrégé : front page image
(EN)A dichroic beam splitter module Is disclosed for separating a main pulse laser -beam from, a pre-pul.se laser beam each, traversing a common beam path, In one embodiment two dichroic elements are physically aligned along the beam path and are configured to pass the pre-pulse, a laser light having a first wavelength, to target materia! located, near an irradiation site yet reiiect the main pulse, a laser light haying a second wavelength. The reflected main pulse is then further reflected by two reflective elements or mirrors from the first dichroic element to the second dichroic element and then on to the irradiation site. In alternative embodiments, the first mirror is deformable. to alter beam characteristics of the reflected main, pulse beam and the second mirror is adjustable to align the main pulse- beam to the irradiation site.
(FR)L'invention concerne un module diviseur de faisceau dichroïque permettant de séparer un faisceau laser d'impulsion principale, un faisceau laser de préimpulsion, traversant chacun un chemin de faisceau commun. Dans un mode de réalisation, deux éléments dichroïques sont physiquement alignés le long du chemin de faisceau et sont configurés pour laisser passer la préimpulsion, une lumière laser ayant une première longueur d'onde, vers un matériau cible situé près d'un site d'irradiation, mais rejeter l'impulsion principale, une lumière laser ayant une seconde longueur d'onde. L'impulsion principale réfléchie est alors encore réfléchie par deux éléments réfléchissants ou miroirs depuis le premier élément dichroïque vers le second élément dichroïque puis sur le site d'irradiation. Dans des modes de réalisation alternatifs, le premier miroir est déformable pour altérer les caractéristiques de faisceau du faisceau d'impulsion principale réfléchie et le second miroir est réglable pour aligner le faisceau d'impulsion principale vers le site d'irradiation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)