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1. (WO2013180531) FILM BARRIÈRE AUX GAZ ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/180531    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/004841
Date de publication : 05.12.2013 Date de dépôt international : 31.05.2013
CIB :
B32B 27/08 (2006.01), B32B 27/18 (2006.01), B32B 37/02 (2006.01), C08J 5/18 (2006.01)
Déposants : LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 128 Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul 150-721 (KR)
Inventeurs : RYU, Sang Uk; (KR).
KIM, Dong Ryul; (KR).
MA, Seung Lac; (KR).
HWANG, Jang Yeon; (KR).
MOON, Jong Min; (KR)
Mandataire : DANA PATENT LAW FIRM; 5th Floor BYC bldg., Teheran-ro 7-gil 8, Gangnam-gu, Seoul 135-080 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0058018 31.05.2012 KR
Titre (EN) GAS BARRIER FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) FILM BARRIÈRE AUX GAZ ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(KO) 가스 차단 필름 및 이의 제조방법
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a gas barrier film having superior adhesive strength, and to a method for manufacturing the film. More particularly, the present invention relates to a gas barrier film in which inorganic particles, the surfaces of which are modified with organic silane, are used as a protective coating layer, to thus improve the adhesive strength between an inorganic layer and the protective coating layer in harsh conditions.
(FR)L'invention concerne un film barrière aux gaz ayant un pouvoir adhésif supérieur, et un procédé de fabrication du film. Plus particulièrement, la présente invention concerne un film barrière aux gaz dans lequel des particules inorganiques, dont les surfaces sont modifiées par du silane organique, sont utilisées comme couche de revêtement protectrice, afin d'améliorer ainsi le pouvoir adhésif entre une couche inorganique et la couche de revêtement protectrice dans des conditions difficiles.
(KO)본 발명은 접착력이 우수한 가스 차단 필름 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 유기실란으로 표면개질된 무기입자를 보호코팅층으로 사용하여 무기물층과 보호코팅층 간의 접착능을 가혹 조건에서도 향상시킨 가스 차단 필름에 관한 것이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)