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1. (WO2013180062) PARTICULE DE FLUORURE DE MAGNÉSIUM ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION, DISPERSION DE PARTICULES DE FLUORURE DE MAGNÉSIUM ET SON PROCÉDÉ DE FORMATION, COMPOSITION PERMETTANT DE FORMER UNE COUCHE À BAS INDICE DE RÉFRACTION ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION, SUBSTRAT POURVU D'UNE COUCHE À BAS INDICE DE RÉFRACTION ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/180062    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/064639
Date de publication : 05.12.2013 Date de dépôt international : 27.05.2013
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    27.03.2014    
CIB :
C01F 5/28 (2006.01), C01B 9/08 (2006.01), C01B 33/107 (2006.01), G02B 1/11 (2006.01)
Déposants : STELLA CHEMIFA CORPORATION [JP/JP]; 3-6-3, Awaji-machi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410047 (JP)
Inventeurs : YABUNE, Tatsuhiro; (JP).
TOMISAKI, Megumi; (JP).
URAYA, Masanori; (JP).
TAKATORI, Hiroaki; (JP)
Mandataire : MAEI, Hiroyuki; 6th Floor Kotera Plaza, 2-5-23 Kitahama,Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-121514 29.05.2012 JP
Titre (EN) MAGNESIUM FLUORIDE PARTICLE, METHOD FOR PRODUCING MAGNESIUM FLUORIDE PARTICLE, MAGNESIUM FLUORIDE PARTICLE DISPERSION, METHOD FOR PRODUCING MAGNESIUM FLUORIDE PARTICLE DISPERSION, COMPOSITION FOR FORMING LAYER HAVING LOW REFRACTIVE INDEX, METHOD FOR PRODUCING COMPOSITION FOR FORMING LAYER HAVING LOW REFRACTIVE INDEX, SUBSTRATE WITH LAYER HAVING LOW REFRACTIVE INDEX, AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE WITH LAYER HAVING LOW REFRACTIVE INDEX
(FR) PARTICULE DE FLUORURE DE MAGNÉSIUM ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION, DISPERSION DE PARTICULES DE FLUORURE DE MAGNÉSIUM ET SON PROCÉDÉ DE FORMATION, COMPOSITION PERMETTANT DE FORMER UNE COUCHE À BAS INDICE DE RÉFRACTION ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION, SUBSTRAT POURVU D'UNE COUCHE À BAS INDICE DE RÉFRACTION ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) フッ化マグネシウム粒子、フッ化マグネシウム粒子の製造方法、フッ化マグネシウム粒子分散液、フッ化マグネシウム粒子分散液の製造方法、低屈折率層形成用組成物、低屈折率層形成用組成物の製造方法、低屈折率層付基材及び低屈折率層付基材の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This magnesium fluoride particle comprises at least one magnesium fluoride microparticle; each of the at least one magnesium microparticle has pores that support a substance to be supported. Furthermore, the at least one magnesium microparticle is a plurality of microparticles, and between adjacent microparticles of the plurality of microparticles, there are particle boundary cavity-shaped pores serving as gaps for supporting the substance to be supported.
(FR)Cette invention concerne une particule de fluorure de magnésium comprenant au moins une microparticule de fluorure de magnésium, chacune desdites microparticules de magnésium comportant des pores qui supportent une substance qui doit être supportée. La microparticule de magnésium est une pluralité de microparticules, et entre des microparticules adjacentes de la pluralité de microparticules, il y a des pores en forme de cavité à la limite des particules servant d'interstices pour supporter la substance qui doit être supportée.
(JA) 本発明のフッ化マグネシウム粒子は、少なくとも1つのフッ化マグネシウム微粒子を含むフッ化マグネシウム粒子であって、前記少なくとも1つのフッ化マグネシウム微粒子の各々は、被担持体を担持する細孔を有する。さらに、前記少なくとも1つのフッ化マグネシウム微粒子は、複数の微粒子であり、前記複数の微粒子のうち互いに隣接する微粒子の間には、前記被担持体を担持する隙間である粒界空隙状細孔が存在する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)