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1. (WO2013179872) COMPOSÉ D'ÉTHER ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/179872    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/063120
Date de publication : 05.12.2013 Date de dépôt international : 10.05.2013
CIB :
C07C 205/38 (2006.01), C07C 201/12 (2006.01), C07C 209/36 (2006.01), C07C 217/90 (2006.01), C07B 61/00 (2006.01)
Déposants : YAMAMOTO CHEMICALS, INC. [JP/JP]; 43, Yugechominami 1-chome, Yao-shi, Osaka 5810034 (JP)
Inventeurs : WADA Masaru; (JP).
YAMAGUCHI Ryoji; (JP).
NAKATSUKA Masakatsu; (JP)
Mandataire : MORIOKA Hiroshi; 3-1-1605, Ryodocho, Nishinomiya-shi, Hyogo 6620841 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-125538 31.05.2012 JP
Titre (EN) ETHER COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COMPOSÉ D'ÉTHER ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) エーテル化合物および該化合物の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are an ether compound of a specific structure useful as a raw material when producing a functional polymer material or functional electronic material and a method for producing this compound. A compound represented by general formula (1) and a method for producing this compound. (In the formula, A1 and A2 each independently represent a nitro group or amino group.)
(FR)Cette invention concerne un composé d'éther ayant une structure spécifique utile à titre de matière première dans la production d'un matériau de type polymère fonctionnel ou d'un matériau électronique fonctionnel et un procédé de production dudit composé. Un composé représenté par la formule générale (1) et un procédé de production dudit composé sont également décrits. (Dans la formule, A1 et A2 représentent chacun indépendamment un groupe nitro ou un groupe amino).
(JA)機能性高分子材料または機能性電子材料を製造する際の原料として有用な特定構造のエーテル化合物、および該化合物の製造方法を提供する。 一般式(1)で表される化合物および該化合物の製造方法である。 (式中、AおよびAはそれぞれ独立に、ニトロ基またはアミノ基を表す)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)