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1. (WO2013178695) APPAREIL DE LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN AGENCEMENT DE MIROIR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/178695    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/061096
Date de publication : 05.12.2013 Date de dépôt international : 29.05.2013
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G02B 7/182 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Inventeurs : SCHAFFER, Dirk; (DE).
CLAUSS, Wilfried; (DE).
CHUNG, Hin Yiu Anthony; (DE)
Mandataire : HORN KLEIMANN WAITZHOFER; Ganghoferstr. 29a 80339 Munich (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2012 209 309.5 01.06.2012 DE
61/654,179 01.06.2012 US
Titre (EN) LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING A MIRROR ARRANGEMENT
(FR) APPAREIL DE LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN AGENCEMENT DE MIROIR
Abrégé : front page image
(EN)A lithography apparatus (100) is disclosed, having at least one mirror arrangement (200) which comprises a mirror substrate (202), the front side of which is provided with a reflecting surface (204), a side wall (206), which extends along a circumference of the mirror substrate (202) from a rear side of the mirror substrate (202), and mounting elements (214), by means of which the mirror arrangement (200) is mounted on a structural element of the lithography apparatus (100). The rear side of the mirror substrate (202) and an inner side of the side wall (206) delimit a cavity (212). Each of the mounting elements (214) is connected to the mirror arrangement (200) at a connection surface (216). The relation S/D > 0.5 is satisfied at least one of the connection surfaces (216), wherein D denotes a thickness of the side wall (206) at the connection surface (216) and S denotes the length of the shortest path through the mirror material from the centroid of the connection surface (216) to the rear side of the mirror substrate (202).
(FR)La présente invention concerne un appareil de lithographie (100) ayant au moins un agencement de miroir (200) qui comprend un substrat de miroir (202) dont le côté avant comporte une surface réfléchissante (204), une paroi latérale (206) qui s'étend le long d'une circonférence du substrat de miroir (202) depuis un côté arrière du substrat de miroir (202), ainsi que des éléments de montage (214) à l'aide desquels l'agencement de miroir (200) est monté sur un élément structural de l'appareil de lithographie (100). Le côté arrière du substrat de miroir (202) et un côté intérieur de la paroi latérale (206) délimitent une cavité (212). Chacun des éléments de montage (214) est relié à l'agencement de miroir (200) au niveau d'une surface de liaison (216). Soit D une épaisseur de la paroi latérale (206) au niveau de la surface de liaison (216), soit S la longueur du chemin le plus court à travers le matériau du miroir depuis le centroïde de la surface de liaison (216) jusqu'au côté arrière du substrat de miroir (202), la relation S/D > 0,5 est satisfaite pour au moins une des surfaces de liaison (216).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)