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1. (WO2013178404) PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION DE L'UTILITÉ DE REPÈRES D'ALIGNEMENT POUR CORRIGER UN REVÊTEMENT, ET COMBINAISON D'UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET D'UN SYSTÈME DE MESURE D'UN REVÊTEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/178404    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/058375
Date de publication : 05.12.2013 Date de dépôt international : 23.04.2013
CIB :
G03F 9/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : LYULINA, Irina; (NL).
BIJNEN, Franciscus; (NL).
EDART, Remi; (NL).
KIERS, Antoine; (NL).
KUBIS, Michael; (DE)
Mandataire : VAN DE VEN, Jan-Piet; ASML Netherlands BV PO Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
61/652,669 29.05.2012 US
Titre (EN) A METHOD TO DETERMINE THE USEFULNESS OF ALIGNMENT MARKS TO CORRECT OVERLAY, AND A COMBINATION OF A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND AN OVERLAY MEASUREMENT SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION DE L'UTILITÉ DE REPÈRES D'ALIGNEMENT POUR CORRIGER UN REVÊTEMENT, ET COMBINAISON D'UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET D'UN SYSTÈME DE MESURE D'UN REVÊTEMENT
Abrégé : front page image
(EN)A method to determine the usefulness of an alignment mark of a first pattern in transferring a second pattern to a substrate relative to the first pattern already present on the substrate includes measuring the position of the alignment mark, modeling the position of the alignment mark, determining the model error between measured and modeled position, measuring a corresponding overlay error between first and second pattern and comparing the model error with the overlay error to determine the usefulness of the alignment mark. Subsequently this information can be used when processing next substrates thereby improving the overlay for these substrates. A lithographic apparatus and/or overlay measurement system may be operated in accordance with the method.
(FR)L'invention concerne un procédé de détermination de l'utilité d'un repère d'alignement d'un premier motif lors du transfert d'un second motif sur un substrat par rapport au premier motif déjà présent sur le substrat, consistant à mesurer la position du repère d'alignement, à modéliser la position du repère d'alignement, à déterminer l'erreur du modèle entre la position mesurée et la position modélisée, à mesurer une erreur de revêtement correspondante entre le premier et le second motif et à comparer l'erreur du modèle avec l'erreur de revêtement pour déterminer l'utilité du repère d'alignement. Par la suite, ces informations peuvent être utilisées lors du traitement des substrats suivants, ce qui permet d'améliorer le revêtement de ces substrats. Un appareil lithographique et/ou un système de mesure d'un revêtement peuvent fonctionner conformément au procédé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)