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1. (WO2013177908) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE RÉSEAU, SUBSTRAT DE RÉSEAU ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/177908    N° de la demande internationale :    PCT/CN2012/085178
Date de publication : 05.12.2013 Date de dépôt international : 23.11.2012
CIB :
G02F 1/1362 (2006.01), G02F 1/1368 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN).
CHENGDU BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No.1188, Hezuo Rd., (West Zone),Hi-tech Development Zone Chengdu, Sichuan 611731 (CN)
Inventeurs : DONG, Xiangdan; (CN).
XUAN, Minghua; (CN).
KO, Young Yik; (CN).
HUANG, Weiyun; (CN)
Mandataire : LIU, SHEN & ASSOCIATES; A0601, Huibin Building, No.8 Beichen Dong Street Chaoyang District Beijing 100101 (CN)
Données relatives à la priorité :
201210179722.9 01.06.2012 CN
Titre (EN) ARRAY SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, ARRAY SUBSTRATE AND DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE RÉSEAU, SUBSTRAT DE RÉSEAU ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 阵列基板的制造方法、阵列基板及显示装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided are an array substrate manufacturing method, an array substrate and a display device. The array substrate comprises a pixel electrode (6) having a stepped portion (10). The sections of the pixel electrode (6) located on the two sides of the stepped portion (10) are connected by the conductive layer (82) by means of through vias (11, 12). The conductive layer (82) and the pixel electrode (6) are located on different tiers. The array substrate is able to avoid signal cutoff on the pixel electrode layer caused by pixel electrode disconnect.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication de substrat de réseau, un substrat de réseau et un dispositif d'affichage. Le substrat de réseau comprend une électrode de pixel (6) ayant une partie étagée (10). Les sections de l'électrode (6) de pixel situées sur les deux côtés de la partie étagée (10) sont connectées par la couche conductrice (82) par le biais de trous traversants (11, 12). La couche conductrice (82) et l'électrode (6) de pixel sont situées sur différents niveaux. Le substrat de réseau est capable d'éviter la coupure de signal sur la couche d'électrode de pixel provoquée par la déconnexion de l'électrode de pixel.
(ZH)提供一种阵列基板的制造方法、阵列基板及显示装置。所述阵列基板包括台阶部(10)的像素电极(6),所述像素电极(6)位于台阶部(10)两侧的部分由导电层(82)通过过孔(11,12)连通,所述导电层(82)与所述像素电极(6)位于不同的层。该阵列基板能够避免由于像素电极的断层引起的像素电极层信号的割断。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)