Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2013172048 - APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT

Numéro de publication WO/2013/172048
Date de publication 21.11.2013
N° de la demande internationale PCT/JP2013/050778
Date du dépôt international 17.01.2013
CIB
G03F 7/20 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/24
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
24Curved surfaces
Déposants
  • 株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 鈴木 智也 SUZUKI Tomonari
  • 小宮山 弘樹 KOMIYAMA Hiroki
Mandataires
  • 志賀 正武 SHIGA Masatake
Données relatives à la priorité
61/648,95618.05.2012US
Langue de publication Japonais (ja)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置
Abrégé
(EN) This substrate processing apparatus transfers a flexible long substrate (S) in the length direction in a state wherein the substrate is supported by means of a part of the circumferential surface of a rotating rolling body (30), and a pattern formed on the circumferential surface of a rotatable mask that can rotate is repeatedly transferred to a substrate surface to be processed. The substrate processing apparatus is provided with: mask holding sections (MU1-MU5), which support the rotatable mask with respect to the rolling body such that a rotatable mask portion involved in the transfer of the outer circumferential surface, and the substrate surface to be processed are disposed at a predetermined interval; and a magnetic gear transmission system (GD) which transmits, by means of a magnetic force, the rotating force of the rolling body or the rotatable mask as the rotating force of the other one of the rolling body and the rotatable mask.
(FR) L'appareil de traitement de substrat faisant l'objet de la présente invention transfère un long substrat flexible (S) dans le sens de la longueur tandis qu'il est porté par une partie de la surface périphérique d'un corps roulant rotatif (30). Un motif formé sur la surface périphérique d'un masque rotatif pouvant tourner est transféré à plusieurs reprises sur une surface de substrat à traiter. L'appareil de traitement de substrat comprend : des sections de retenue de masque (MU1 à MU5) qui portent le masque rotatif par rapport au corps roulant de manière à ce qu'une partie du masque rotatif impliquée dans le transfert de la surface périphérique extérieure et la surface de substrat à traiter se situent à un intervalle prédéfini ; et un système de transmission par engrenage magnétique (GD) qui transmet, au moyen d'une force magnétique, la force de rotation du corps roulant pour qu'elle devienne la force de rotation du masque rotatif, ou la force de rotation du masque rotatif pour qu'elle devienne la force de rotation du corps roulant.
(JA)  基板処理装置は、可撓性を有する長尺の基板(S)を、回転可能な転動体(30)の円周面の一部で支持した状態で、長尺の方向に搬送すると共に、回転可能な回転マスクの周面に形成されたパターンを、基板の被処理面に繰り返し転写する。回転マスクの外周面の転写に関与する部分と基板の被処理面とが所定の間隔で配置されるように、回転マスクを転動体に対して支持するマスク保持部(MU1~MU5)と、転動体及び回転マスクの一方の回転力を他方の回転力として磁力で伝達する磁気歯車伝達系(GD)と、を備える。
Documents de brevet associés
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international