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1. (WO2013077418) MEMBRANE DE SÉPARATION DE GAZ, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET MODULE À MEMBRANE DE SÉPARATION DE GAZ UTILISANT CELLE-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/077418    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/080351
Date de publication : 30.05.2013 Date de dépôt international : 22.11.2012
CIB :
B01D 69/12 (2006.01), B01D 53/22 (2006.01), B01D 71/16 (2006.01), B01D 71/52 (2006.01), B01D 71/56 (2006.01), B01D 71/64 (2006.01), B01D 71/70 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : ISHIZUKA, Kenichi; (JP).
ITOU, Shigehide; (JP)
Mandataire : IIDA, Toshizo; ISHII Bldg. 3F, 1-10, Shimbashi 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1050004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-258325 25.11.2011 JP
Titre (EN) GAS SEPARATION MEMBRANE, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND GAS SEPARATION MEMBRANE MODULE USING SAME
(FR) MEMBRANE DE SÉPARATION DE GAZ, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET MODULE À MEMBRANE DE SÉPARATION DE GAZ UTILISANT CELLE-CI
(JA) ガス分離膜、その製造方法、それを用いたガス分離膜モジュール
Abrégé : front page image
(EN)A gas separation membrane provided with a support layer and a separation layer formed on the upper side of the support layer, wherein the separation layer is provided with a main separation layer body positioned on the support-layer side and a hydrophilic layer arranged on the opposite side to the support layer, the hydrophilic layer having a hydrophilic polymer.
(FR)L'invention concerne une membrane de séparation de gaz pourvue d'une couche de support et d'une couche de séparation formée sur le côté supérieur de la couche de support. La couche de séparation est pourvue d'un corps principal de couche de séparation positionné sur le côté couche de support et d'une couche hydrophile agencée sur le côté opposé à la couche de support, la couche hydrophile comportant un polymère hydrophile.
(JA) 支持層と該支持層の上側に形成された分離層とを具備するガス分離膜であって、前記分離層は前記支持層とは反対側に配置された親水性ポリマーを有してなる親水性層と支持層側の分離層本体とを具備してなるガス分離膜。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)