WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2013074712) COMPOSITIONS CONTENANT DU GRAPHÈNE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/074712    N° de la demande internationale :    PCT/US2012/065135
Date de publication : 23.05.2013 Date de dépôt international : 14.11.2012
CIB :
C01B 31/04 (2006.01)
Déposants : VORBECK MATERIALS [US/US]; 8306 Patuxent Range Road #105 Jessup, Maryland 20794 (US)
Inventeurs : REDMOND, Kate; (US).
SCHEFFER, Dan; (US)
Mandataire : REDMOND, Kate; Vorbeck Materials 8306 Patuxent Range Road Jessup, Maryland 20794 (US)
Données relatives à la priorité :
61/559,715 14.11.2011 US
61/596,216 07.02.2012 US
61/596,220 07.02.2012 US
61/596,224 08.02.2012 US
Titre (EN) GRAPHENE CONTAINING COMPOSITIONS
(FR) COMPOSITIONS CONTENANT DU GRAPHÈNE
Abrégé : front page image
(EN)Compositions comprising graphene sheets, and at least one acid. The compositions may optionally contain a polymer. They may be in the form of inks or coatings. The acids can be organic acids or mineral acids. The pKa in water of the acid is preferably less than about 4, or more preferably less than about 3, or yet more preferably less than about 2.5. The pKa in water may be less than about 2, or less than about 1, or less than about 0. Examples of mineral acids include sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, nitrous acid, phosphoric acid, boric acid, hydrobromic acid, perchloric acid, etc. Examples of acids include sulfur-based acids such as sulfonic acids, polysulfonic acids, sulfinic acids, including monomeric and polymeric organic sulfonic acids such as aromatic sulfonic acids such as benzenesulfonic acids, alkylbenzene sulfonic acids, alkyl and aliphatic sulfonic acids, toluenesulfonic acids, and naphthalenesulfonic acids
(FR)L'invention concerne des compositions comprenant des feuilles de graphène et au moins un acide. Les compositions peuvent facultativement contenir un polymère. Elles peuvent se présenter sous la forme d'encres ou de revêtements. Les acides peuvent être des acides organiques ou des acides minéraux. Le pKa dans l'eau de l'acide est, de préférence, inférieur à environ 4, ou de façon davantage préférée, inférieur à environ 3, ou de façon encore plus préférée inférieur à environ 2,5. Le pKa dans l'eau peut être inférieur à environ 2, ou inférieur à environ 1, ou inférieur à environ 0. Des exemples d'acides minéraux comprennent l'acide sulfurique, l'acide chlorhydrique, l'acide nitrique, l'acide nitreux, l'acide phosphorique, l'acide borique, l'acide bromhydrique, l'acide perchlorique, etc. Des exemples d'acides comprennent des acides à base de soufre, tels que les acides sulfoniques, les acides polysulfoniques, les acides sulfiniques, comprenant les acides sulfoniques organiques monomères et polymères, tels que les acides sulfoniques aromatiques tels que les acides benzènesulfoniques, les acides alkylbenzène sulfoniques, les acides alkylsulfoniques et sulfoniques aliphatiques, les acides toluènesulfoniques et les acides naphtalènesulfoniques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)