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1. (WO2013074211) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE DÉPÔT À L'AIDE D'UN PLASMA À PRESSION ATMOSPHÉRIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/074211    N° de la demande internationale :    PCT/US2012/058363
Date de publication : 23.05.2013 Date de dépôt international : 01.10.2012
CIB :
C23C 14/22 (2006.01), C23C 14/46 (2006.01), H01J 37/34 (2006.01)
Déposants : THE BOEING COMPANY [US/US]; 100 North Riverside Plaza Chicago, Illinois 60606-2016 (US)
Inventeurs : MATOS, Marvi A.; (US).
PINGREE, Liam S.; (US)
Mandataire : SLENKER, Robert; The Boeing Company PO Box 2515 MC 110-SD54 Seal Beach, California 90740-1515 (US)
Données relatives à la priorité :
13/286,957 01.11.2011 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR DEPOSITION USING AN ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE DÉPÔT À L'AIDE D'UN PLASMA À PRESSION ATMOSPHÉRIQUE
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus may comprise a plasma deposition unit, a movement system, and a mesh system. The plasma deposition unit may be configured to generate a plasma. The movement system may be configured to move a substrate under the plasma deposition unit. The mesh system may be located between the plasma deposition unit and the substrate in which a mesh may comprise a number of materials for deposition onto the substrate and in which the plasma passing through the mesh may cause a portion of the number of materials from the mesh to be deposited onto the substrate.
(FR)L'invention concerne un appareil qui peut comprendre une unité de dépôt par plasma, un système de déplacement et un système de maille. L'unité de dépôt par plasma peut être configurée pour générer un plasma. Le système de déplacement peut être configuré pour déplacer un substrat sous l'unité de dépôt par plasma. Le système de maille peut être situé entre l'unité de dépôt par plasma et le substrat, dans lequel une maille peut comprendre un nombre de matières pour le dépôt sur le substrat et dans lequel le plasma passant à travers la maille peut amener une partie du nombre de matières provenant de la maille à être déposée sur le substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)