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1. (WO2013073711) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN FILM D'OXYDE CONDUCTEUR AMORPHE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/073711    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/080254
Date de publication : 23.05.2013 Date de dépôt international : 15.11.2012
CIB :
H01B 13/00 (2006.01), C01G 55/00 (2006.01), H01B 1/08 (2006.01), H01B 1/20 (2006.01), H01B 5/02 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01)
Déposants : JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY [JP/JP]; 1-8, Honcho 4-chome, Kawaguchi-shi, Saitama 3320012 (JP)
Inventeurs : SHIMODA Tatsuya; (JP).
LI Jinwang; (JP)
Mandataire : OHSHIMA Masataka; OHSHIMA PATENT OFFICE BN Gyoen Building, 17-11, Shinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-252387 18.11.2011 JP
Titre (EN) METHOD FOR FORMING AMORPHOUS CONDUCTIVE OXIDE FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN FILM D'OXYDE CONDUCTEUR AMORPHE
(JA) アモルファス導電性酸化物膜の形成方法
Abrégé : front page image
(EN)A method for forming an amorphous conductive oxide film, which is characterized by comprising a step wherein a coating film is formed by applying a composition onto a substrate and heating the coating film in an oxidizing atmosphere, said composition containing (A1) a × y parts by mole of one or more metal compounds that are selected from the group consisting of carboxylate salts, alkoxides, diketonatos, nitrate salts and halides of a metal that is selected from among lanthanoids (excluding cerium), (A2) a × (1 - y) parts by mole of one or more metal compounds that are selected from the group consisting of carboxylate salts, alkoxides, diketonatos, nitrate salts and halides of a metal that is selected from among lead, bismuth, nickel, palladium, copper and silver, (B) 1 part by mole of one or more metal compounds that are selected from the group consisting of carboxylate salts, alkoxides, diketonatos, nitrate salts, halides, nitrosyl carboxylate salts, nitrosyl nitrate salts, nitrosyl sulfate salts and nitrosyl halides of a metal that is selected from among ruthenium, iridium, rhodium and cobalt and (C) a solvent that contains one or more substances that are selected from the group consisting of carboxylic acids, alcohols, ketones, diols and glycol ethers.
(FR)L'invention concerne un procédé de formation d'un film d'oxyde conducteur amorphe, caractérisé en ce qu'il comprend une étape au cours de laquelle une pellicule protectrice est formée par application d'une composition sur un substrat et par chauffage de la pellicule protectrice dans une atmosphère oxydante, ladite composition contenant (A1) a × y parts par mole d'un ou de plusieurs composés métalliques choisis dans le groupe constitué par des sels de carboxylate, des alcoxydes, des dicétonates, des sels de nitrate et des halogénures d'un métal choisi parmi des lanthanides (à l'exclusion du cérium), (A2) a × (1 - y) parts par mole d'un ou de plusieurs composés métalliques choisis dans le groupe constitué par des sels de carboxylate, des alcoxydes, des dicétonates, des sels de nitrate et des halogénures d'un métal choisi parmi le plomb, le bismuth, le nickel, le palladium, le cuivre et l'argent, (B) 1 part par mole d'un ou de plusieurs composés métalliques choisis dans le groupe constitué par les sels de carboxylate, les alcoxydes, les dicétonates, les sels de nitrate, les halogénures, les sels de carboxylate de nitrosyle, les sels de nitrate de nitrosyle, les sels de sulfate de nitrosyle et les halogénures de nitrosyle d'un métal choisi dans le groupe constitué par le ruthénium, l'iridium, le rhodium et le cobalt et (C) un solvant contenant une ou plusieurs substances choisies dans le groupe constitué par des acides carboxyliques, des alcools, des cétones, des diols et des éthers de glycol.
(JA)基板上に、(A1)ランタノイド(ただし、セリウムを除く。)から選択される金属のカルボン酸塩、アルコキシド、ジケトナート、硝酸塩およびハロゲン化物よりなる群から選択される金属化合物の1種以上 a×y モル部、(A2)鉛、ビスマス、ニッケル、パラジウム、銅および銀から選択される金属のカルボン酸塩、アルコキシド、ジケトナート、硝酸塩およびハロゲン化物よりなる群から選択される金属化合物の1種以上 a× (1 - y )モル部、ならびに(B)ルテ二ウム、イリジウム、ロジウムおよびコバルトから選択される金属のカルボン酸塩、アルコキシド、ジケトナート、硝酸塩、ハロゲン化物、ニトロシルカルボン酸塩、ニトロシル硝酸塩、ニトロシル硫酸塩およびニトロシルハロゲン化物よりなる群から選択される金属化合物の1種以上 1モル部ならびに(C)カルボン酸、アルコール、ケトン、ジオールおよびグリコールエーテルよりなる群から選択される1種以上を含有する溶媒を含有する組成物を塗布して塗膜を形成し、該塗膜を酸化性雰囲気下において加熱する工程を経ることを特徴とする、アモルファス導電性酸化物膜の形成方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)