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1. (WO2013073505) COMPOSITION D'AUTO-ORGANISATION POUR LA FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/073505    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/079308
Date de publication : 23.05.2013 Date de dépôt international : 12.11.2012
CIB :
C08L 83/04 (2006.01), C08L 25/04 (2006.01)
Déposants : JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP)
Inventeurs : MINEGISHI Shinya; (JP).
NAMIE Yuji; (JP).
NAGAI Tomoki; (JP).
SONE Takuo; (JP)
Mandataire : AMANO Kazunori; c/o Amano & Partners, 6th Floor, Fujikogyo-Nishimotomachi Building, 1-18, Aioi-cho 1-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500025 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-248549 14.11.2011 JP
Titre (EN) SELF-ORGANIZING COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION AND PATTERN FORMATION METHOD
(FR) COMPOSITION D'AUTO-ORGANISATION POUR LA FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
(JA) パターン形成用自己組織化組成物及びパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)The invention is a self-organizing composition for pattern formation comprising [A] a polymer with a heteroatom-containing group (α) on at least one end of the main chain, and [B] a polysiloxane. The heteroatom is preferably at least one kind selected from the group consisting of oxygen atoms, nitrogen atoms, sulfur atoms, phosphorus atoms, tin atoms and silicon atoms. The group (α) is preferably represented by formula (1). The polymer [A] is preferably a styrene polymer. (1)
(FR)L'invention concerne une composition d'auto-organisation pour la formation d'un motif comprenant [A] un polymère avec un groupe contenant un hétéroatome (α) sur au moins une extrémité de la chaîne principale et [B] un polysiloxane. L'hétéroatome est de préférence au moins une sorte sélectionnée dans le groupe constitué d'atomes d'oxygène, d'atomes d'azote, d'atomes de soufre, d'atomes de phosphore, d'atomes d'étain et d'atomes de silicium. Le groupe (α) est de préférence représenté par la formule (1). Le polymère [A] est de préférence un polymère de styrène. (1)
(JA) 本発明は、[A]ヘテロ原子を含む基(α)を主鎖の少なくとも一方の末端に有する重合体、及び[B]ポリシロキサンを含有するパターン形成用自己組織化組成物である。上記ヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、スズ原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。上記基(α)は下記式(1)で表されることが好ましい。[A]重合体は、スチレン系重合体であることが好ましい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)