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1. (WO2013073157) MATÉRIAU PHOTOSENSIBLE, MILIEU HOLOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ D'ENREGISTREMENT HOLOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/073157    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/007242
Date de publication : 23.05.2013 Date de dépôt international : 12.11.2012
CIB :
C08F 2/44 (2006.01), C08F 290/00 (2006.01), G03H 1/02 (2006.01), G03H 1/28 (2006.01), G11B 7/0065 (2006.01), G11B 7/244 (2006.01)
Déposants : NIPPON STEEL & SUMIKIN CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 14-1, Sotokanda 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010021 (JP) (Tous Sauf US).
SHIMIZU, Takehiro [JP/JP]; (JP) (US only).
ANDO, Toshio [JP/JP]; (JP) (US only).
MASAKI, Kazuyoshi [JP/JP]; (JP) (US only)
Inventeurs : SHIMIZU, Takehiro; (JP).
ANDO, Toshio; (JP).
MASAKI, Kazuyoshi; (JP)
Mandataire : SAKURA PATENT OFFICE, P.C.; PMO Kanda Tsukasa-machi, 8-1, Kanda Tsukasa-machi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010048 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-248249 14.11.2011 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE MATERIAL, HOLOGRAPHIC MEDIUM AND HOLOGRAPHIC RECORDING METHOD
(FR) MATÉRIAU PHOTOSENSIBLE, MILIEU HOLOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ D'ENREGISTREMENT HOLOGRAPHIQUE
(JA) 感光性材料、ホログラフィック記録媒体、及びホログラフィック記録方法
Abrégé : front page image
(EN)A photosensitive material comprising a polymer matrix, a radically polymerizable monomer and a photoradical polymerization initiator, wherein the polymer matrix has a stable nitroxyl radical in its side chain and the molar ratio of the stable nitroxyl radical to the radically polymerizable monomer is within the range of 0.03-0.25.
(FR)La présente invention concerne un matériau photosensible comprenant une matrice polymère, un monomère polymérisable par voie radicalaire et un initiateur de polymérisation photoradicalaire, la matrice polymère contenant un radical nitroxyle stable dans sa chaîne latérale et le rapport molaire entre le radical nitroxyle stable et le monomère polymérisable par voie radicalaire se trouvant dans la plage allant de 0,03 à 0,25.
(JA) ポリマーマトリックス、ラジカル重合性モノマー及び光ラジカル重合開始剤を含む感光性材料であって、前記ポリマーマトリックスが側鎖に安定ニトロキシルラジカルを有し、前記安定ニトロキシルラジカルの前記ラジカル重合性モノマーに対するモル比が0.03~0.25の範囲である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)