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1. (WO2013072516) PROCÉDÉ POUR LA FOURNITURE D'UN NANO-MOTIF DE NANOSTRUCTURES D'OXYDE MÉTALLIQUE SUR UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/072516    N° de la demande internationale :    PCT/EP2012/072935
Date de publication : 23.05.2013 Date de dépôt international : 16.11.2012
CIB :
G03F 7/00 (2006.01), B82B 3/00 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITY COLLEGE CORK - NATIONAL UNIVERSITY OF IRELAND, CORK [IE/IE]; Western Road Cork City (IE)
Inventeurs : MORRIS, Michael; (IE).
BORAH, Dipu; (IE).
GHOSHAL, Tandra; (IE).
MOKARIAN, Parvaneh; (IE)
Mandataire : PURDY, Hugh Barry; PURDYLUCEY Intellectual Property 6-7 Harcourt Terrace Dublin 2 (IE)
Données relatives à la priorité :
11189329.3 16.11.2011 EP
61/560,347 16.11.2011 US
Titre (EN) A METHOD FOR PROVIDING A NANOPATTERN OF METAL OXIDE NANOSTRUCTURES ON A SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ POUR LA FOURNITURE D'UN NANO-MOTIF DE NANOSTRUCTURES D'OXYDE MÉTALLIQUE SUR UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)A method for providing a nanopattern of periodically ordered metal oxide nanostructures on a substrate is described. The method comprises the steps of providing a microphase separated block copolymer as a thin film on a substrate, the block copolymer comprising a first polymer having an affinity for a cations of the metal and a second polymer having a lower affinity for the cations than the first polymer, and selectively incorporating a salt of the metal cation into the first polymer of the block copolymer by means of a solvation process prior to or after formation of the microphase separated block copolymer. The block copolymer film is then treated to oxidise the metal ion salt and remove the polymers leaving a nanopattern of metal oxide nanostructures on the substrate.
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant la fourniture d'un nano-motif de nanostructures d'oxyde métallique par ordre périodique sur un substrat. Le procédé comprend les étapes suivantes : la fourniture d'un copolymère séquencé à séparation de micro-phase sous la forme d'un film mince sur un substrat, le copolymère séquencé comportant un premier polymère ayant une affinité pour un cation du métal et un second polymère ayant une faible affinité pour le cation inférieure à celle du premier polymère, et l'incorporation sélective d'un sel du cation métallique dans le premier polymère du copolymère séquencé au moyen d'un processus de solvatation avant ou après la formation du copolymère séquencé à séparation de micro-phase. Le film de copolymère séquencé est ensuite traité pour l'oxydation du sel d'ion métallique et pour l'élimination des polymères laissant subsister un nano-motif de nanostructures d'oxyde métallique sur le substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)