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1. (WO2013071043) SUBSTRATS POLYMÈRES POREUX COMPRENANT DES PARTICULES POREUSES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/071043    N° de la demande internationale :    PCT/US2012/064354
Date de publication : 16.05.2013 Date de dépôt international : 09.11.2012
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    10.01.2014    
CIB :
C08J 9/00 (2006.01), B01D 71/64 (2006.01), H01M 2/16 (2006.01)
Déposants : DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC [US/US]; 2040 Dow Center Midland, MI 48674 (US)
Inventeurs : MATTEUCCI, Scott, T.; (US).
NICKLESS, Brian, C.; (US).
KILOS, Beata, A.; (US).
JU, Hao; (US)
Mandataire : CRAWFORD, Bradley; The Dow Chemical Company Intellectual Property P.O. Box 1967 Midland, MN 48641-1967 (US)
Données relatives à la priorité :
61/558,314 10.11.2011 US
Titre (EN) POLYMERIC POROUS SUBSTRATES INCLUDING POROUS PARTICLES
(FR) SUBSTRATS POLYMÈRES POREUX COMPRENANT DES PARTICULES POREUSES
Abrégé : front page image
(EN)A polymeric porous substrate is described. The substrate may be used as battery separator or in other industrial applications. The polymeric porous substrate is formed from a polymer such as a polyimide or polyetherimide that, in the absence of porous particles, forms a skin when cast into a substrate. The polymeric porous substrate also includes porous particles.
(FR)La présente invention concerne un substrat polymère poreux. Le substrat peut être utilisé comme séparateur de batterie ou dans d'autres applications industrielles. Le substrat polymère poreux est formé à partir d'un polymère, tel qu'un polyimide ou un polyétherimide, qui, en l'absence de particules poreuses, forme une peau quand il est coulé pour obtenir un substrat. Le substrat polymère poreux comprend également des particules poreuses.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)