WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
PATENTSCOPE sera indisponible quelques heures pour des raisons de maintenance le samedi 18.08.2018 à 09:00 CEST
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2013069739) FENÊTRE DIÉLECTRIQUE POUR DISPOSITIF DE TRAITEMENT PLASMA ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2013/069739 N° de la demande internationale : PCT/JP2012/079006
Date de publication : 16.05.2013 Date de dépôt international : 08.11.2012
CIB :
H05H 1/46 (2006.01) ,C23C 16/511 (2006.01) ,H01L 21/205 (2006.01) ,H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED[JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325, JP
Inventeurs : TIAN, Caizhong; JP
MATSUMOTO, Naoki; JP
KOYAMA, Kouzi; JP
MIHARA, Naoki; JP
TAKAHASHI, Kazuki; JP
YOSHIKAWA, Jun; JP
MOYAMA, Kazuki; JP
TANIKAWA, Takehiro; JP
Mandataire : IMY INTERNATIONAL PATENT OFFICE, P.C.; Oriental Sakaisuji Bldg., 21-19, Shimanouchi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5420082, JP
Données relatives à la priorité :
2011-24777811.11.2011JP
Titre (EN) DIELECTRIC WINDOW FOR PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA TREATMENT DEVICE
(FR) FENÊTRE DIÉLECTRIQUE POUR DISPOSITIF DE TRAITEMENT PLASMA ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT PLASMA
(JA) プラズマ処理装置用誘電体窓、およびプラズマ処理装置
Abrégé : front page image
(EN) This dielectric window (41) for a plasma treatment device is provided to a plasma treatment device that uses microwaves as a plasma source; the dielectric window is circular-plate-shaped and allows microwaves to propagate. The dielectric window (41) for a plasma treatment device has a recess (47) that has an opening on the lower-surface side and that indents in the plate thickness direction of the dielectric window (41) for a plasma treatment device, provided to the lower surface (46) at which plasma is generated when the dielectric window is provided to the plasma treatment device. The recess (47) has: a bottom surface (51) extending in the direction perpendicular to the plate thickness direction; side surfaces (53) extending in the plate thickness direction from the edges (52) of the bottom surface (51) toward the opening of the recess (47); and inclined surfaces (55) extending at an incline relative to the plate thickness direction from the opening-side edges (54) of the side surfaces (53) toward the opening of the recess (47).
(FR) La présente invention porte sur une fenêtre diélectrique(41) pour dispositif de traitement plasma qui est fournie à un dispositif de traitement plasma qui utilise des micro-ondes en tant que source de plasma ; la fenêtre diélectrique est en forme de plaque circulaire et permet à des micro-ondes de se propager. La fenêtre diélectrique (41) pour dispositif de traitement plasma a un renfoncement (47) qui a une ouverture sur le côté surface inférieure et qui crée une indentation dans la direction d'épaisseur de plaque de la fenêtre diélectrique (41) pour dispositif de traitement plasma, disposée à la surface inférieure (46) à laquelle un plasma est généré lorsque la fenêtre diélectrique est fournie au dispositif de traitement et fournir un dispositif de traitement plasma. Le renfoncement (47) a : une surface inférieure (51) s'étendant dans la direction perpendiculaire à la direction d'épaisseur de plaque ; des surfaces latérales (53) s'étendant dans la direction d'épaisseur de plaque depuis les bords (52) de la surface inférieure (51) vers l'ouverture du renforcement (47) ; et des surfaces inclinées (55) s'étendant à une inclinaison par rapport à la direction d'épaisseur de plaque depuis les bords côté ouverture (54) des surfaces latérales (53) vers l'ouverture du renfoncement (47).
(JA)  プラズマ処理装置用誘電体窓(41)は、マイクロ波をプラズマ源とするプラズマ処理装置に備えられ、円板状であり、マイクロ波を伝播する。プラズマ処理装置用誘電体窓(41)のうち、プラズマ処理装置に備えられた際にプラズマを生成する側の下面(46)には、開口が下面側となり、プラズマ処理装置用誘電体窓(41)の板厚方向の内方側に向かって凹む凹部(47)が設けられている。凹部(47)は、板厚方向に垂直な方向に延びる底面(51)と、底面(51)の周縁(52)から凹部(47)の開口側に向かって板厚方向に延びる側面(53)と、側面(53)の開口側の周縁(54)から凹部(47)の開口側に向かって板厚方向に対して傾斜して延びる傾斜面(55)とから構成される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)