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1. (WO2013069466) PROCÉDÉ FORMANT MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/069466    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/077560
Date de publication : 16.05.2013 Date de dépôt international : 25.10.2012
CIB :
H01L 21/288 (2006.01), B05D 3/06 (2006.01), B05D 5/04 (2006.01), H01L 21/3205 (2006.01), H01L 21/336 (2006.01), H01L 21/768 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031 (JP)
Inventeurs : MIYAMOTO Kimiaki; (JP)
Mandataire : WATANABE Mochitoshi; Yusen Iwamoto-cho Bldg. 6F., 3-3, Iwamoto-cho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-247100 11.11.2011 JP
Titre (EN) PATTERN-FORMING METHOD
(FR) PROCÉDÉ FORMANT MOTIF
(JA) パターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)A pattern-forming method for forming fine patterns has: a step for changing a pattern-forming region, in which a pattern is to be formed, into a hydrophilic/hydrophobic region in a first film formed on a substrate and having a hydrophilic/hydrophobic conversion function; and a step for forming a second film in the pattern-forming region, and forming a pattern by drying the second film. The second film has a viscosity of 3mPa·s or less when at a thickness of 0.1μm.
(FR)La présente invention porte sur un procédé formant motif pour former des motifs fins, qui a : une étape pour changer une région formant motif, dans laquelle un motif est à former, en une région hydrophile/hydrophobe dans un premier film formé sur un substrat et ayant une fonction de conversion hydrophile/hydrophobe; et une étape pour former un second film dans la région formant motif, et former un motif par séchage du second film. Le second film a une viscosité de 3 mPa·s ou moins lorsqu'il est à une épaisseur de 0,1 µm.
(JA) 微細なパターンのパターン形成方法は、基板上に形成された、親疎水性変換機能を有する第1の膜において、パターンが形成されるパターン形成領域を親疎水性に変化させる工程と、パターン形成領域に第2の膜を形成し、第2の膜が乾燥してパターンを形成する工程とを有する。第2の膜は、厚さが0.1μmになったときの粘度が3mPa・s以下である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)