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1. (WO2013069227) ÉLÉMENT OPTIQUE DE DIFFRACTION, DISPOSITIF DE CAPTURE D'IMAGE ET DISPOSITIF D'ÉCLAIRAGE UTILISANT LEDIT ÉLÉMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/069227    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/006960
Date de publication : 16.05.2013 Date de dépôt international : 30.10.2012
CIB :
G02B 5/18 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), B32B 27/00 (2006.01), G02B 1/04 (2006.01), G02B 13/00 (2006.01)
Déposants : PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP)
Inventeurs : HANADA, Yasuyuki; .
KORENAGA, Tsuguhiro; .
OKADA, Yuka;
Mandataire : OSHIMA & PARTNERS; 2-20, Kanda-Jimbocho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010051 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-245457 09.11.2011 JP
Titre (EN) DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT AND IMAGE PICKUP DEVICE AND ILLUMINATION DEVICE USING THIS
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE DE DIFFRACTION, DISPOSITIF DE CAPTURE D'IMAGE ET DISPOSITIF D'ÉCLAIRAGE UTILISANT LEDIT ÉLÉMENT
(JA) 回折光学素子ならびにこれを用いた撮像装置および照明装置
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To provide a diffraction optical element in which excellent balance is achieved between high refractive index and low wavelength dispersion, and which has excellent processing characteristics and has high resistance to heat and ability to withstand changes of temperature. [Solution] A diffraction optical element (1) comprises: a substrate (2) constituted by a silsesquioxane resin material or dendrimer material having a first refractive index and first Abbe number, with a diffraction grating (4) formed on the surface thereof and a protective film (3) constituted by a silicone resin material having a second refractive index smaller than the first refractive index and a second Abbe number smaller than the first Abbe number, formed on the substrate (2) that is formed with the diffraction grating (4).
(FR)Le problème à résoudre dans le cadre de la présente invention consiste à fournir un élément optique de diffraction présentant un excellent équilibre entre un indice de réfraction élevé et une faible dispersion de longueurs d'ondes, d'excellentes caractéristiques de traitement, une grande résistance à la chaleur et une aptitude à supporter des variations de température. Ainsi, selon la présente invention, un élément optique de diffraction (1) comprend : un substrat (2) composé d'un matériau en une résine de silsesquioxane ou d'un matériau dendrimère ayant un premier indice de réfraction et un premier nombre d'Abbe, un réseau de diffraction (4) étant formé à la surface du substrat, et un film de protection (3) composé d'un matériau en une résine de silicone ayant un second indice de réfraction inférieur au premier et un second nombre d'Abbe inférieur au premier et formé sur le substrat (2) pourvu du réseau de diffraction (4).
(JA)【課題】高屈折率と低波長分散性とがバランス良く両立し、かつ加工性に優れ、さらには耐熱性が高く温度変化に強い回折光学素子を提供する。 【解決手段】回折光学素子1は、第1の屈折率及び第1のアッベ数を有するシルセスキオキサン樹脂材料またはデンドリマー材料で構成され、その表面に回折格子4が形成された基材2と、第1の屈折率より小さい第2の屈折率及び第1のアッベ数より小さい第2のアッベ数を有するシリコーン樹脂材料で構成され、回折格子4が形成された基材2上に形成された保護膜3とを備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)