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1. (WO2013067218) MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE POUR PLAQUETTE SOLAIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2013/067218 N° de la demande internationale : PCT/US2012/063114
Date de publication : 10.05.2013 Date de dépôt international : 01.11.2012
CIB :
H02N 13/00 (2006.01)
Déposants : CHO, Young, Kyu[KR/US]; US
JANAKIRAMAN, Karthik[IN/US]; US
BLUCK, Terry[US/US]; US
KEDLAYA, Diwakar[IN/US]; US
INTEVAC, INC.[US/US]; 3560 Bassett Street Santa Clara, CA 95054, US
Inventeurs : CHO, Young, Kyu; US
JANAKIRAMAN, Karthik; US
BLUCK, Terry; US
KEDLAYA, Diwakar; US
Données relatives à la priorité :
61/554,45701.11.2011US
Titre (EN) SOLAR WAFER ELECTROSTATIC CHUCK
(FR) MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE POUR PLAQUETTE SOLAIRE
Abrégé : front page image
(EN) An electrostatic chuck is disclosed, which is especially suitable for fabrication of substrates at high throughput. The disclosed chuck may be used for fabricating large substrates or several smaller substrates simultaneously. For example, disclosed embodiments can be used for fabrication of multiple solar cells simultaneously, providing high throughput. An electrostatic chuck body is constructed using aluminum body having sufficient thermal mass to control temperature rise of the chuck, and anodizing the top surface of the body. A ceramic frame is provided around the chuck's body to protect it from plasma corrosion. If needed, conductive contacts are provided to apply voltage bias to the wafer. The contacts are exposed through the anodization.
(FR) L'invention concerne un mandrin électrostatique, qui est en particulier approprié pour la fabrication de substrats à haut rendement. Le mandrin décrit peut être utilisé pour fabriquer de grands substrats ou plusieurs substrats plus petits simultanément. Par exemple, des modes de réalisation décrits peuvent être utilisés pour fabriquer de multiples cellules solaires simultanément, offrant un haut rendement. Un corps de mandrin électrostatique est construit par utilisation d'un corps en aluminium ayant une masse thermique suffisante pour limiter une élévation de température du mandrin, et anodisation de la surface supérieure du corps. Un cadre céramique est placé autour du corps du mandrin afin de le protéger contre une corrosion par plasma. Si nécessaire, des contacts conducteurs sont prévus afin d'appliquer une tension de polarisation à la plaquette. Les contacts sont exposés par l'anodisation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)