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1. (WO2013066767) OPTIMISATION D'UN MODÈLE BASÉ SUR UNE VARIATION DE PROCESSUS POUR LA MÉTROLOGIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2013/066767 N° de la demande internationale : PCT/US2012/062234
Date de publication : 10.05.2013 Date de dépôt international : 26.10.2012
CIB :
H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED[JP/JP]; Akasaka Biz Tower, 3-1 Akasaka 5-chome Minato-ku, Tokyo 1076325, JP
KLA-TENCOR CORPORATION[US/US]; One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventeurs : PANDEV, Stilian; US
Mandataire : MALLIE, Michael A.; Blakely Sokoloff Taylor & Zafman LLP 1279 Oakmead Parkway Sunnyvale, California 94085, US
Données relatives à la priorité :
13/286,07931.10.2011US
Titre (EN) PROCESS VARIATION-BASED MODEL OPTIMIZATION FOR METROLOGY
(FR) OPTIMISATION D'UN MODÈLE BASÉ SUR UNE VARIATION DE PROCESSUS POUR LA MÉTROLOGIE
Abrégé : front page image
(EN) Process variation-based model optimization for metrology is described. For example, a method includes determining a first model of a structure. The first model is based on a first set of parameters. A set of process variations data is determined for the structure. The first model of the structure is modified to provide a second model of the structure based on the set of process variations data. The second model of the structure is based on a second set of parameters different from the first set of parameters. A simulated spectrum derived from the second model of the structure is then provided.
(FR) La présente invention concerne une optimisation d'un modèle basé sur une variation de processus pour la métrologie. Par exemple, un procédé consiste à déterminer un premier modèle d'une structure. Le premier modèle est basé sur un premier ensemble de paramètres. Un ensemble de données de variations de processus est déterminé pour la structure. Le premier modèle de la structure est modifié pour réaliser un second modèle de la structure sur la base de l'ensemble des données de variations de processus. Le second modèle de la structure est basé sur un second ensemble de paramètres différent du premier ensemble de paramètres. Un spectre simulé déduit du second modèle de la structure est ensuite créé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)