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1. (WO2013065432) COMPOSITION DE LIQUIDE NETTOYANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2013/065432 N° de la demande internationale : PCT/JP2012/075280
Date de publication : 10.05.2013 Date de dépôt international : 24.09.2012
CIB :
C11D 17/08 (2006.01) ,C11D 1/28 (2006.01) ,C11D 1/68 (2006.01) ,C11D 1/83 (2006.01) ,C11D 3/18 (2006.01)
Déposants : JX Nippon Oil & Energy Corporation[JP/JP]; 6-3, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008162, JP
Inventeurs : AOYAGI, Ko; JP
Mandataire : SUGIMURA, Kenji; 36F, Kasumigaseki Common Gate West, 3-2-1, Kasumigaseki, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
Données relatives à la priorité :
2011-23966231.10.2011JP
2012-14750429.06.2012JP
Titre (EN) CLEANING LIQUID COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE LIQUIDE NETTOYANT
(JA) 洗浄液組成物
Abrégé :
(EN) Provided is a cleaning liquid composition which can clean and remove dirt which comprises lowly polar dirt and highly polar dirt and which is attached to parts used in a variety of industrial fields, such as automobiles, machinery, precision instruments, electrical parts, electronics and optics. The cleaning liquid composition of the present invention contains (A) a straight chain saturated aliphatic hydrocarbon, (B) an anionic surfactant, (C) a non-ionic surfactant and (D) water. The content of component (A) is 60.0 to 85.0 mass % relative to the cleaning liquid composition, the content of component (B) is 8.0 to 15.0 mass % relative to the cleaning liquid composition, the content of component (C) is 2.0 to 5.0 mass % relative to the cleaning liquid composition, the content of component (D) is 1.0 to 20.0 mass % relative to the cleaning liquid composition, the total content of components (B) and (C) is 10.0 to 20.0 mass % relative to the cleaning liquid composition, the content ratio of components (B) and (C) ((B) / (C)) is 2.0 to 5.0, and the saturated water content, as measured by means of the turbidity of a mixed liquid obtained by adding water to a composition comprising the components (A), (B) and (C), is 10 mass % or higher.
(FR) L'invention fournit une composition de liquide nettoyant permettant de nettoyer et retirer une salissure adhérant sur un composant manipulé dans divers domaines industriels tels que l'automobile, la mécanique, les appareils de précision, l'électricité, l'électronique, l'optique, ou similaire, et dans laquelle se combinent une salissure de basse polarité et une salissure de polarité élevée. Cette composition de liquide nettoyant contient : (A) un hydrocarbure aliphatique saturé à chaîne linéaire; (B) un tensio-actif anionique; (C) un tensio-actif non-ionique; et (D) une eau. La teneur en (A) est comprise entre 60,0 et 85,0% en masse de la composition de liquide nettoyant; la teneur en (B) est comprise entre 8,0 et 15,0% en masse de la composition de liquide nettoyant; la teneur en (C) est comprise entre 2,0 et 5,0% en masse de la composition de liquide nettoyant; et la teneur en (D) est comprise entre 1,0 et 20,0% en masse de la composition de liquide nettoyant. La teneur totale en (B) et (C) est comprise entre 10,0 et 20,0% en masse de la composition de liquide nettoyant. Le rapport de teneur ((B)/(C)) entre (B) et (C), est compris entre 2,0 et 5,0. La teneur en eau saturée mesurée selon la turbidité d'un mélange de liquides dans lequel l'eau est ajoutée à la composition constituée de (A), (B) et (C), est supérieure ou égale à 10% en masse.
(JA)  自動車、機械、精密機器、電気、電子、光学等の各種工業分野において扱われる部品に付着した、極性の低い汚れと極性の高い汚れが複合した汚れを洗浄して除去することができる洗浄液組成物を提供する。本発明の洗浄液組成物は、(A)直鎖飽和脂肪族炭化水素、(B)アニオン性界面活性剤、(C)非イオン性界面活性剤、及び(D)水を含み、前記(A)の含有量が洗浄液組成物に対して60.0質量%~85.0質量%であり、前記(B)の含有量が洗浄液組成物に対して8.0質量%~15.0質量%であり、前記(C)の含有量が洗浄液組成物に対して2.0質量%~5.0質量%であり、前記(D)の含有量が洗浄液組成物に対して1.0質量%~20.0質量%であり、前記(B)と前記(C)との合計含有量が洗浄液組成物に対して10.0質量%~20.0質量%であり、前記(B)と前記(C)との含有量比((B)/(C))が2.0~5.0であり、前記(A)、前記(B)、及び前記(C)からなる組成物に水を添加した混合液の濁度により測定した飽和水分量が10質量%以上である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)