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1. (WO2013062778) PROCÉDÉ INNOVANT PERMETTANT D'ÉQUILIBRER LE DÉBIT GAZEUX PARMI DES RÉACTEURS DE DCPV MULTIPLES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/062778    N° de la demande internationale :    PCT/US2012/059758
Date de publication : 02.05.2013 Date de dépôt international : 11.10.2012
CIB :
H01L 21/205 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US) (Tous Sauf US).
OH, Jeonghoon [US/US]; (US) (US only).
COX, Michael S. [US/US]; (US) (US only).
POLYAK, Alexander S. [US/US]; (US) (US only)
Inventeurs : OH, Jeonghoon; (US).
COX, Michael S.; (US).
POLYAK, Alexander S.; (US)
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; Patterson & Sheridan, L.L.P. 3040 Post Oak Blvd., Suite 1500 Houston, Texas 77056-6582 (US)
Données relatives à la priorité :
61/551,603 26.10.2011 US
Titre (EN) NOVEL METHOD FOR BALANCING GAS FLOW AMONG MULTIPLE CVD REACTORS
(FR) PROCÉDÉ INNOVANT PERMETTANT D'ÉQUILIBRER LE DÉBIT GAZEUX PARMI DES RÉACTEURS DE DCPV MULTIPLES
Abrégé : front page image
(EN)Gas supply systems and methods are disclosed for solar cell production using multiple parallel reactors. A first gas supply control system has a gas panel having a plurality of gas outlet lines, supplying a first main supply line having a main line mass flow meter measuring the combined total gas mass flow rate in the first main supply line. First, second and third branch lines supplied by the first main supply line each branch line having mass flow controller and one or more control loops established between the mass flow meter and the branch line mass flow controllers. In addition, a second gas supply control system may be coupled to the first gas supply control system to avoid mixing certain gases before they enter the respective reactors to which they are supplied.
(FR)L'invention concerne des systèmes et des procédés d'alimentation en gaz pour la production de cellules solaires au moyen de réacteurs parallèles multiples. Un premier système de contrôle d'alimentation en gaz a un panneau de gaz ayant une pluralité de lignes de sortie de gaz, alimentant une première ligne d'alimentation principale ayant un débitmètre en masse de ligne principale mesurant le débit en masse de gaz total dans la première ligne d'alimentation principale. Des première, deuxième et troisième lignes de dérivation sont alimentées par la première ligne d'alimentation principale, chaque ligne de dérivation ayant un contrôleur de débit en masse et un ou plusieurs circuits de contrôle établis entre le débitmètre en masse et les contrôleurs de débit en masse des lignes de dérivation. De plus, un second système de contrôle d'alimentation en gaz peut être couplé au premier système de contrôle d'alimentation en gaz pour éviter de mélanger certains gaz avant qu'ils entrent dans les réacteurs respectifs qu'ils alimentent.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)