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1. (WO2013062158) MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE À BALAYAGE QUI PRÉSENTE UNE FONCTION D'ALIGNEMENT DES FAISCEAUX ÉLECTRONIQUES ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE COMMANDER UN FILTRE DE WIEN POUR UN MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE À BALAYAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/062158    N° de la demande internationale :    PCT/KR2011/008082
Date de publication : 02.05.2013 Date de dépôt international : 27.10.2011
CIB :
H01J 37/28 (2006.01), H01J 37/244 (2006.01)
Déposants : SNU PRECISION CO., LTD. [KR/KR]; 1629-2, Bongcheon7-dong, Gwanak-gu Seoul 152-818 (KR) (Tous Sauf US).
KIM, Souk [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KUM, Woo Rak [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
AHN, Jae Hyung [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : KIM, Souk; (KR).
KUM, Woo Rak; (KR).
AHN, Jae Hyung; (KR)
Mandataire : CHO, Young Hyun; (Daeju Patent & Law Office) 8F, Gyeongmok Bldg., (Seocho-dong), 3, Seoun-ro, Seocho-gu Seoul 137-070 (KR)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SCANNING ELECTRON MICROSCOPE HAVING AN ELECTRONIC BEAM ALIGNING FUNCTION, AND METHOD FOR CONTROLLING A WIEN FILTER FOR A SCANNING ELECTRON MICROSCOPE
(FR) MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE À BALAYAGE QUI PRÉSENTE UNE FONCTION D'ALIGNEMENT DES FAISCEAUX ÉLECTRONIQUES ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE COMMANDER UN FILTRE DE WIEN POUR UN MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE À BALAYAGE
(KO) 주사전자현미경용 빈필터 제어방법 및 전자빔 정렬 기능을 구비한 주사전자현미경
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method for controlling a Wien filter for a scanning electron microscope. The method for controlling the Wien filter for the scanning electron microscope is used for a scanning electron microscope which detects electrons by passing them through the Wien filter and making same enter a detector, wherein the electrons are emitted after electronic beams generated from a light source enter a sample through the Wien filter. The method is characterized by including: the production of a final electric field and a final magnetic field which are applied to the Wien filter to allow the electronic beams passing through the Wien filter to reach a target point on the sample and, at the same time, to allow the electrons emitted from the sample and passing through the Wien filter to reach the detector; and the application of the final electric field and final magnetic field to the Wien filter.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé permettant de commander un filtre de Wien pour un microscope électronique à balayage. Le procédé permettant de commander un filtre de Wien pour le microscope électronique à balayage est utilisé pour un microscope électronique à balayage qui détecte des électrons en les faisant passer à travers le filtre de Wien et en les faisant entrer dans un détecteur, les électrons étant émis après que des faisceaux électroniques générés depuis une source de lumière entrent dans un échantillon en passant à travers le filtre de Wien. Le procédé est caractérisé par le fait qu'il comprend : la production d'un champ électrique final et d'un champ magnétique final qui sont appliqués au filtre de Wien pour permettre aux faisceaux électroniques de passer à travers le filtre de Wien afin d'atteindre un point cible sur l'échantillon et, en même temps, pour permettre aux électrons émis de l'échantillon de passer à travers le filtre de Wien afin d'atteindre le détecteur ; et l'application du champ électrique final et du champ magnétique final au filtre de Wien.
(KO)본 발명은 주사전자현미경용 빈필터 제어방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 주사전자현미경용 빈필터 제어방법은 광소스로부터 생성되는 전자빔이 빈필터를 통과하여 시료에 입사된 후 방출되는 방출전자를 빈필터에 통과시켜 디텍터에 입사시킴으로써 검출하는 주사전자 현미경에 이용되는 방법으로서, 상기 빈필터를 통과한 전자빔이 상기 시료의 목표점에 도달되도록 하는 동시에 상기 시료로부터 방출되어 상기 빈필터를 통과하는 방출전자가 상기 디텍터에 도달되도록 하기 위하여 상기 빈필터에 인가되어야 하는 최종전기장 및 최종자기장을 산출하는 산출단계; 상기 최종전기장 및 상기 최종자기장을 상기 빈필터에 인가하는 인가단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)